[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 202011622812.1 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114686113A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 周靖宇;马健;荆建芬;倪宇飞;宋凯;汪国豪;周文婷;杨征;王拓;许芃亮 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，
包含磨料、氧化剂、无机酸及其盐类和水。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述无机酸选自氢溴酸、氢碘酸、氢碲酸、硼酸、过硼酸、偏硼酸、溴酸、碘酸、铬酸、锰酸、砷酸、钨酸、钼酸、硒酸、碲酸、铅酸、偏铝酸、偏亚砷酸、磷酸、次磷酸、焦磷酸中的一种或多种；
所述盐类选自钾盐、钠盐或铵盐中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述氧化剂为高锰酸钾。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述磨料选自二氧化锰、三氧化二铝、二氧化铈、二氧化钛单组分磨料以及表面包覆二氧化硅、三氧化二铝、二氧化铈、二氧化钛的复合磨料中一种或多种。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述磨料的质量百分比含量为0.1-10％。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述磨料的粒径范围为50-500nm。
7.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述氧化剂的质量百分比含量为0.01-1％。
8.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述无机酸及其盐类的质量百分比含量为0.01-2％。
9.如权利要求8所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述无机酸及其盐类的质量百分比含量为0.1-0.5％。
10.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述化学机械抛光液的pH值为2-6。
11.一种化学机械抛光液的使用方法，其特征在于，
将如权利要求1-10中任一项所述的化学机械抛光液用于含碳材料的化学机械抛光。
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