[发明专利]一种甘薯茎叶晒后修复面膜及其制备方法

权利要求书

1.一种甘薯茎叶晒后修复面膜，其特征在于，制备所述面膜的原料包括甘薯茎叶粉0.5～2.0份，基底油10～20份，甘油5～15份，乳化剂2～5份，抑菌剂0.2～0.8份，去离子水70～90份；所述基底油为橄榄油或鳄梨油；

所述甘薯茎叶粉为将甘薯茎叶经灭酶、干燥和粉碎后制备得到；粉碎后所述甘薯茎叶的粒度为150～200目；所述乳化剂为赛比克305、卵磷脂、二辛基十二醇月桂酰谷氨酸酯中的一种或两种；

所述甘薯茎叶晒后修复面膜的制备方法，包括如下步骤：

1)将甘薯茎叶粉、去离子水、甘油充分地混合均匀，得A物料；将基底油、乳化剂和抑菌剂混合均匀，得B物料；

2)将A物料与B物料混匀；

3)采用高压均质机或剪切分散乳化机对上述混合均匀的物料进行处理，至物料均匀不分层，得所述晒后修复面膜。

2.根据权利要求1所述的晒后修复面膜，其特征在于，所述乳化剂为赛比克305。

3.根据权利要求1所述的晒后修复面膜，其特征在于，所述抑菌剂为苯氧乙醇、山梨酸、尼泊金甲酯中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的晒后修复面膜，其特征在于，所述抑菌剂为苯氧乙醇。

5.根据权利要求1或2所述的晒后修复面膜，其特征在于，制备所述面膜的原料包括甘薯茎叶粉0.5～2.0份、鳄梨油10～20份，甘油5～15份，赛比克305 2～5份，苯氧乙醇0.2～0.8份，去离子水70～90份。

6.根据权利要求1所述的甘薯茎叶晒后修复面膜，其特征在于，所述制备方法中，所述高压均质机均质条件为压力10～30Mpa，均质1～3次。

7.根据权利要求6所述的甘薯茎叶晒后修复面膜，其特征在于，高压均质机均质条件为压力25～30Mpa，均质2～3次。

8.根据权利要求1所述的甘薯茎叶晒后修复面膜，其特征在于，所述制备方法中，所述剪切分散乳化机的均质条件为10000～18000r/min，均质100～150s。

9.根据权利要求8所述的甘薯茎叶晒后修复面膜，其特征在于，所述剪切分散乳化机的均质条件为15000～18000r/min，均质120～130s。