[发明专利]一锅法合成对乙酰氧基苯乙烯的方法有效
| 申请号: | 202011594973.4 | 申请日: | 2020-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN113336645B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
| 发明(设计)人: | 毕景峰;李嫚嫚;蒋小惠;贺宝元;潘惠英 | 申请(专利权)人: | 上海博栋化学科技有限公司 |
| 主分类号: | C07C67/08 | 分类号: | C07C67/08;C07C67/293;C07C67/297;C07C69/157 |
| 代理公司: | 上海尊肃专利代理事务所(普通合伙) 31454 | 代理人: | 李珍珍 |
| 地址: | 201614 上海市松江*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一锅 成对 乙酰 苯乙烯 方法 | ||
本发明公开了一锅法合成对乙酰氧基苯乙烯的方法,涉及有机合成领域,该合成方法使用对羟基苯甲醛为起始原料,采用一锅法合成,反应历程如下:S1.对羟基苯甲醛与乙酸酐经酰基化反应得到对乙酰氧基苯甲醛;S2.对乙酰氧基苯甲醛与乙酸酐发生普尔金反应生成对乙酰氧基肉桂酸;S3.对乙酰氧基肉桂酸发生脱羧反应得到对乙酰氧基苯乙烯。本发明的有益效果在于,合成工艺简单、反应条件温和、反应收率适中,综合成本低。
技术领域
本发明涉及有机合成领域,特别涉及一锅法合成对乙酰氧基苯乙烯的方法。
背景技术
对乙酰氧基苯乙烯是一种重要的芳香族化合物,可用于制备树脂、弹性体、粘合剂、涂料、汽车面漆、墨水或者光致抗蚀剂。其中,对乙酰氧基苯乙烯可用于合成光致抗蚀剂的主要成分聚对羟基苯乙烯。聚对羟基苯乙烯系列的化学增幅光致抗蚀剂是目前国际上主流的光致抗蚀剂产品,是用于处理光蚀刻集成电路、制造芯片等关键技术之一。
现有的合成对乙酰氧基苯乙烯的方法多以对羟基苯乙酮和对羟基苯甲醛为起始原料。以对羟基苯乙酮为起始原料的合成路线大多需要乙酰化、氢化和脱水,反应操作复杂,脱水条件苛刻;目前采用对羟基苯甲醛作为初始原料时主要有以下几种反应将醛基转换为双键:(1)格氏反应;(2)witting反应;(3)丙二酸法脱羧;这些合成方法各有优缺点,其中格氏试剂和witting试剂价格昂贵,生产成本高;丙二酸法一般需要经过多步反应,反应综合收率低,多以吡啶作溶剂,气味难闻。
为此,迫切需要开发一种操作简单,条件温和,综合成本低的合成对乙酰氧基苯乙烯的合成方法。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷,提供一锅法合成对乙酰氧基苯乙烯的方法。
为了解决上述技术问题,本发明提供了如下的技术方案:
一锅法合成对乙酰氧基苯乙烯的方法,该合成方法使用对羟基苯甲醛为起始原料,采用一锅法合成,反应历程用如下的反应式进行表示:
S1.对羟基苯甲醛与乙酸酐经酰基化反应得到对乙酰氧基苯甲醛;
S2.对乙酰氧基苯甲醛与乙酸酐发生普尔金反应生成对乙酰氧基肉桂酸;
S3.对乙酰氧基肉桂酸发生脱羧反应得到对乙酰氧基苯乙烯。
具体的合成步骤包括:
将1摩尔的对羟基苯甲醛、2~5摩尔的第一碱性催化剂和阻聚剂加到第一溶剂中,加热升到第一温度,并在该温度下搅拌下滴加乙酸酐,当滴加完大于等于对羟基苯甲醛的摩尔量的乙酸酐后;保持温度反应第一反应时间,再一次性加入剩余的乙酸酐,两次共加入2~6摩尔的乙酸酐;继续加热到第二温度,搅拌反应第二反应时间。
本发明第一碱性催化剂包括:碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯、乙酸钾、乙二胺和DBU。优选的,第一碱性催化剂为碳酸钠或者碳酸钾。第一碱性催化剂的添加量为3~4摩尔。
本发明的阻聚剂包括:对叔丁基邻苯二酚、对羟基苯甲醚和吩噻嗪、氢醌、N-氧基(硝基氧化物)阻聚剂:4-羟基TEMPO和1,6-亚已基-二(N-甲酰基-N-(1-氧基-2,2,6,6,-四甲基哌啶)-4基)胺和双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯氮氧自由基。
本发明的第一溶剂优选极性非质子溶剂,包括:N,N’-二甲基甲酰胺、二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮和氯仿。
本发明优选的第一温度为100℃~130℃。
本发明优选的第一反应时间为0.5~1.5小时。
本发明优选的第二温度为140℃~160℃。
本发明优选的第二反应时间为20~30小时。
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