[发明专利]显示设备在审
申请号: | 202011579374.5 | 申请日: | 2020-12-28 |
公开(公告)号: | CN113130588A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 安贤真;白承汉;朴成雨;尹景载 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;苏虹 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 设备 | ||
1.一种显示设备,包括显示区域、围绕所述显示区域的非显示区域、和形成在所述非显示区域的至少一侧中的弯曲区域,所述显示设备包括:
第一玻璃基板,所述第一玻璃基板包括第一平坦表面和与所述第一平坦表面相反的第一背表面,所述第一平坦表面与所述显示区域交叠;
第二玻璃基板,所述第二玻璃基板包括第二平坦表面和与所述第二平坦表面相反的第二背表面,所述第二平坦表面在相邻于所述弯曲区域处与所述非显示区域交叠;
设置在所述第一背表面之下的第一掩模构件;和
设置在所述第二背表面之下的第二掩模构件。
2.根据权利要求1所述的显示设备,其中所述第一掩模构件和所述第二掩模构件包含对所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板的蚀刻溶液具有耐受性的聚合物材料。
3.根据权利要求2所述的显示设备,其中所述聚合物材料包括重均分子量为1000g/mol或更大的烃聚合物。
4.根据权利要求1所述的显示设备,其中所述第一掩模构件和所述第二掩模构件包括聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、乙烯乙酸乙烯酯、聚碳酸酯和聚对苯二甲酸乙二醇酯中的至少一者。
5.根据权利要求1所述的显示设备,其中所述第一掩模构件包括:
布置成与所述第一背表面相邻的第一掩模构件金属层;和
布置在所述第一掩模构件金属层之下的第一掩模构件抗蚀刻层。
6.根据权利要求5所述的显示设备,其中所述第一掩模构件抗蚀刻层包含对所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板的蚀刻溶液具有耐受性的聚合物材料。
7.根据权利要求5所述的显示设备,其中所述第一掩模构件还包括布置在所述第一玻璃基板和所述第一掩模构件金属层之间的第一掩模构件粘结剂层。
8.根据权利要求1所述的显示设备,其中所述第二掩模构件包括:
布置成与所述第二背表面相邻的第二掩模构件金属层;和
布置在所述第二掩模构件金属层之下的第二掩模构件抗蚀刻层。
9.根据权利要求8所述的显示设备,其中所述第二掩模构件还包括布置在所述第二玻璃基板和所述第二掩模构件金属层之间的第二掩模构件粘结剂层。
10.根据权利要求8所述的显示设备,其中所述第二掩模构件抗蚀刻层包含对所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板的蚀刻溶液具有耐受性的聚合物材料。
11.根据权利要求1所述的显示设备,其中所述第一掩模构件包括:
构成所述第一掩模构件的基体的第一掩模构件树脂层;和
分散在所述第一掩模构件树脂层中的第一掩模构件导热颗粒。
12.根据权利要求11所述的显示设备,其中所述第一掩模构件导热颗粒包括金属颗粒和碳颗粒中的至少一者。
13.根据权利要求11所述的显示设备,其中所述第一掩模构件树脂层包括光致抗蚀剂树脂。
14.根据权利要求1所述的显示设备,其中所述第二掩模构件包括:
构成第二掩模构件的基体的第二掩模构件树脂层;和
分散在所述第二掩模构件树脂层中的第二掩模构件导热颗粒。
15.根据权利要求14所述的显示设备,其中所述第二掩模构件树脂层包括光致抗蚀剂树脂。
16.根据权利要求1所述的显示设备,其中所述第一玻璃基板包括:
布置在所述第一平坦表面的一侧处的第一端;
布置在所述第一背表面的一侧处的第二端;和
连接所述第一端与所述第二端的第一蚀刻表面。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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