[发明专利]成膜装置

说明书

本发明提供一种成膜装置，为了得到所希望的膜而能够在更适当的条件下进行成膜。成膜装置(1)中，监视部(52)能够监视用于形成规定物质的膜的粒子的能量分布中的多个特征部(FP1、FP2、FP3)的能量。监视部(52)并非监视能量分布的单个特征部(例如仅监视特征部(FP3)等)而是监视多个特征部(FP1、FP2、FP3)的能量，由此能够更准确地掌握能量分布的状况。因此，成膜控制部(54)能够在准确地掌握能量分布的状况的基础上，调整用于得到所希望的膜的成膜条件。根据以上所述，为了得到所希望的膜而能够在更适当的条件下进行成膜。

技术领域

本申请主张基于2019年12月27日申请的日本专利申请第2019-239293号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

本发明涉及一种成膜装置。

背景技术

作为使成膜材料的粒子附着于对象物而形成膜的成膜装置，已知专利文献1中所记载的成膜装置。该成膜装置使用等离子枪在腔室内生成等离子体，且在腔室内使成膜材料蒸发。成膜材料附着于基板，由此在该基板上形成膜。

专利文献1：日本特开2016-141856号公报

在此，在上述成膜装置中，测定等离子枪的阴极与阳极之间的电压，并基于该测定结果调整了成膜条件。该电压的测定结果能够用于粒子向基板入射时的能量分布中的最大能量的监视。然而，仅通过最大能量，无法掌握能量分布整体的状态。因此，要求一种为了得到所希望的膜而能够在更适当的条件下进行成膜的成膜装置。

发明内容

于是，本发明的课题在于提供一种成膜装置，为了得到所希望的膜而能够在更适当的条件下进行成膜。

本发明所涉及的成膜装置为，使成膜材料的粒子附着于对象物而形成膜，该成膜装置具备：成膜部，通过向对象物供给粒子而对膜进行成膜；监视部，监视相对于所述对象物的粒子的能量分布中的多个特征部的能量；及调整部，基于信息及监视部的监视结果来调整成膜条件。

本发明所涉及的成膜装置中，监视部能够监视用于形成规定物质的膜的粒子的能量分布中的多个特征部的能量。监视部并非监视能量分布的单一特征部而是监视多个特征部的能量，由此能够更准确地掌握能量分布的状况。因此，调整部能够在准确地掌握了能量分布的状况的基础上，调整用于得到所希望的膜的成膜条件。通过以上所述，为了得到所希望的膜而能够在更适当的条件下进行成膜。

监视部为，作为特征部，可以监视从能量较低的一侧观察能量分布时形成的第1峰值的能量、在比第1峰值靠高能量侧形成的第2峰值的能量及能量分布中的最大能量中的至少任一个。由此，监视部能够准确地掌握能量分布的状况。

成膜部为，具备射出等离子体的等离子枪及在保持成膜材料的同时将等离子体引导至成膜材料的阳极，由此通过离子镀法进行成膜，监视部可以基于测定等离子体电位而得的测定结果、测定为了使等离子枪的等离子体收敛而具有电磁线圈的中间电极与阳极之间的电压而得的测定结果、及测定等离子枪的阴极与阳极之间的电压而得的测定结果中的至少任一个来进行监视。由此，监视部能够适当地监视能量分布的特征部的能量。

发明的效果

根据本发明，能够提供一种成膜装置，为了得到所希望的膜而能够在更适当的条件下进行成膜。

附图说明

图1为本发明的实施方式所涉及的成膜装置的框结构图。

图2为示出表示成膜装置的结构的概略剖视图。

图3为表示粒子入射到基板的表面而形成膜时的状况的示意图。

图4为表示与各元素对应的表面扩散能量的图表。

图5为用于对膜的取向进行说明的图表及示意图。

图6为表示能量分布的一例的图表。