[发明专利]一种计算线圈PCB板耐压的关键参数的算法在审

专利信息
申请号: 202011568339.3 申请日: 2020-12-26
公开(公告)号: CN112765775A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 蔡响齐;廉泽阳;王国;李艳国;肖在荣 申请(专利权)人: 泰和电路科技(惠州)有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;H05K3/00;G06F115/12
代理公司: 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260 代理人: 张德兴
地址: 516000 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 计算 线圈 pcb 耐压 关键 参数 算法
【说明书】:

发明公开了一种计算线圈PCB板耐压的关键参数的算法,通过在计算程序中设置好公式:线圈PCB板的层与层间距离A=(V1÷H1)x(1+T1),线圈PCB板的图形到图形的距离B=(V2÷H2)+T2;线圈PCB板的孔到图形的距离C=(V3÷H3)+T3;线圈PCB板的铜到边的距离D=(V4÷H4)+T4;线圈PCB板的油墨厚度E=V5÷H5;输入相应的参数值,经计算程序计算,即可得到层与层间距离A,图形到图形的距离B,孔到图形的距离C,铜到边的距离D以及油墨厚度E的值,和手工计算相比,计算效率提高了99%,准确率达到了100%。

技术领域

本发明涉及PCB板领域,尤其涉及到一种计算线圈PCB板耐压的关键参数的算法。

背景技术

目前PCB板子特别是线圈PCB板,客户一般需要管控初级次级之间、初级磁芯之间的耐压,而影响耐压的几个关键参数为:层间间距、图形到图形间距、孔到图形间距、孔到边间距、油墨厚度;这些因素受材料和工艺能力本身的影响,其耐压不同而要求的间距或厚度值完全是不一样的。如果人工手工去推算,容易用错算法导致产品批量不合格;也因为推算时条件不一样,考虑方向不一样,比较耗时间。

发明内容

本发明公开了一种计算线圈PCB板耐压的关键参数的算法,其目的在于解决手工计算线圈PCB板耐压的关键参数导致工作效率低下且容易出错的问题。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

一种计算线圈PCB板耐压的关键参数的算法,包括如下步骤:

步骤1:定义线圈PCB板的层与层间距离为A,输入的耐压要求为V1,层间1密耳的距离可以耐压H1,层间管控的空间为T1,则A=(V1÷H1)x(1+T1);步骤2:定义线圈PCB板的图形到图形的距离为B,输入的耐压要求为V2,同层图形到图形1密耳的距离可以耐压H2,层间图形之间偏差的公差为T2,则B=(V2÷H2)+T2;

步骤3:定义线圈PCB板的孔到图形的距离为C,输入的耐压要求为V3,层间孔到图形1密耳可以耐压H3,层间孔与图形偏差的公差为T3,则C=(V3÷H3)+T3;

步骤4:定义线圈PCB板的铜到边的距离为D,输入的耐压要求为V4,铜到边1密耳的距离可以耐压H4,成型偏差的公差为T4,则D=(V4÷H4)+T4;

步骤5,定义线圈PCB板的油墨厚度为E,输入的耐压要求为V5,油墨厚度1密耳可以耐压H5,则E=V5÷H5;

其中,上述5个步骤无先后关系。

进一步地,在步骤1中,若V1=5000,H1=400,T1为30%,则A=16.25。

进一步地,在步骤2中,若V2=5000,H2=300,T2为6,则B=22.67。

进一步地,在步骤3中,若V3=5000,H3=200,T3为5,则C=30。

进一步地,在步骤4中,若V4=5000,H4=250,T4为7,则D=27。

进一步地,在步骤5中,若V5=5000,H5=100,则E=50。

本发明具有如下有益效果:根据定义线圈PCB板的层与层间距离A=(V1÷H1)x(1+T1),线圈PCB板的图形到图形的距离B=(V2÷H2)+T2;线圈PCB板的孔到图形的距离C=(V3÷H3)+T3;线圈PCB板的铜到边的距离D=(V4÷H4)+T4;线圈PCB板的油墨厚度E=V5÷H5;输入相应的参数值,经计算程序计算,即可得到层与层间距离A,图形到图形的距离B,孔到图形的距离C,铜到边的距离D以及油墨厚度E的值,和手工计算相比,计算效率提高了99%,准确率达到了100%。

附图说明

图1为第一线圈PCB板1的结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泰和电路科技(惠州)有限公司,未经泰和电路科技(惠州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011568339.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top