[发明专利]虚拟和增强现实系统和组件的改进制造有效

专利信息
申请号: 202011551607.0 申请日: 2016-03-05
公开(公告)号: CN112558307B 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: R·D·泰克尔斯特;M·A·克鲁格;P·M·格列柯;B·T·朔文格特 申请(专利权)人: 奇跃公司
主分类号: G02B27/01 分类号: G02B27/01;G02B5/18;G02B27/42
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 贺月娇;杨晓光
地址: 美国佛*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 虚拟 增强 现实 系统 组件 改进 制造
【权利要求书】:

1.一种制造用于目镜的衍射光学元件的方法,所述方法包括:

在第一衬底上沉积第一层,其中所述第一层包括第一部分和第二部分,所述第一部分被沉积为在所述第一衬底上的第一区域上具有第一深度,所述第一部分具有第一光学折射率,所述第二部分被沉积为在所述第一衬底上的第二区域上具有第二深度,并且所述第二部分具有与所述第一光学折射率不同的第二光学折射率;

识别其上形成有印刻图案的模板,所述模板包括第一组深度结构和第二组深度结构,所述第一组深度结构对应于所述第一部分的所述第一深度,所述第二组深度结构对应于所述第二部分的所述第二深度;以及

使用所述模板将所述印刻图案印刻到所述第一衬底上的所述第一部分和所述第二部分中,其中

所述衍射光学元件包括第一衍射光学元件,

所述印刻图案包括用于所述第一衍射光学元件的衍射图案,

所述第一部分在印刻之前被沉积为具有所述第一深度并且所述第一部分与第一功能相关,

所述第二部分在印刻之前被沉积为具有所述第二深度并且所述第二部分与第二功能相关,并且

所述第一深度不同于所述第二深度。

2.根据权利要求1所述的方法,还包括:

使用所述模板,同时印刻分别沉积在所述第一区域和所述第二区域上的所述第一部分和所述第二部分,以将第一图案和第二图案形成在所述第一衬底上,其中

所述印刻图案包括所述第一图案和所述第二图案,

所述模板使用所述第一组深度结构将所述第一图案印刻在所述第一层的所述第一部分上,并且

所述模板使用所述第二组深度结构将所述第二图案印刻在所述第一层的所述第二部分上。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述第一图案对应于第一衍射光栅图案,并且所述第二图案对应于第二衍射光栅图案。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述第一部分或所述第二部分用作内耦光栅、正交光瞳扩展器光栅或出射光瞳扩展器光栅。

5.根据权利要求1所述的方法,还包括:

在所述第一层上方沉积第二层用于所述目镜的所述第一衍射光学元件,其中

所述第二层包括在所述第二层的第一区域中具有第一折射率值的第一材料,

所述第二层还包括在所述第二层的第二区域中具有第二折射率值的第二材料,

所述第一衬底包括具有第三折射率值的第三材料,以及

调整所述第一折射率值、所述第二折射率值和所述第三折射率值以提供衍射效率对入射角的依赖性的变化。

6.根据权利要求1所述的方法,其中所述衍射光学元件还包括第二衍射光学元件,并且其中所述方法还包括:

在第一弱透镜上方堆叠所述第二衍射光学元件,所述第一弱透镜进一步堆叠在所述第一衍射光学元件上方,其中

所述第一衍射光学元件比所述第二衍射光学元件更靠近观看者的眼睛,并且限定第一焦平面,所述第一焦平面具有光学无限远的第一焦距,

所述第二衍射光学元件通过所述第一弱透镜与所述第一衍射光学元件分离,并且

所述第二衍射光学元件包括第二衬底,并且所述第一弱透镜限定具有第二焦距的第二焦平面,所述第二焦距小于光学无限远的所述第一焦距。

7.根据权利要求6所述的方法,其中所述衍射光学元件还包括第三衍射光学元件,并且其中所述方法还包括:

在所述第二衍射光学元件上方堆叠所述第三衍射光学元件,其中

所述第三衍射光学元件包括第三衬底,并且被设置成比所述第二衍射光学元件更远离观看者的眼睛,

所述第三衍射光学元件通过第二透镜与所述第二衍射光学元件分离,并且

所述第一弱透镜和所述第二透镜的组合限定具有第三焦距的第三焦平面,所述第三焦距小于所述第二焦距。

8.根据权利要求7所述的方法,还包括:

在所述第三衍射光学元件上方设置补偿透镜层,以补偿所述第一弱透镜和所述第二透镜的总焦度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奇跃公司,未经奇跃公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011551607.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top