[发明专利]一种质谱仪器极片清洗装置及清洗质谱仪器极片的方法

说明书

本发明提供了一种质谱仪器极片清洗装置，包括微波组件和矩管；所述矩管包括由内向外嵌套设置的内管、中管和外管；所述中管一端的管壁上设有开口；所述微波组件包括电连接的固态微波源和耦合环；所述固态微波源设置于矩管外；所述耦合环设置于所述中管上的开口处。本发明提供的质谱仪器极片清洗装置在使用时在中管和内管中通入放电气体，利用固态微波源驱动微波放电，通过耦合环将微波能传输至中管，中管的放电气体点燃等离子体，与内管的放电气体在矩管的管口形成等离子炬焰，形成的等离子炬焰在极片外部进行烧蚀，利用高温使极片上沉积的电绝缘体涂层在真空中升华而蒸发，在无需破真空取出极片就可以实现质谱仪器极片的清洗，简化了清洗工艺。

技术领域

本发明属于质谱仪技术领域，具体涉及一种质谱仪器极片清洗装置及清洗质谱仪器极片的方法。

背景技术

基质辅助激光解吸飞行时间质谱仪(MALDI-TOF MS)是一种广泛使用的生物质谱仪。通过MALDI离子源产生的激光向样品和基质的混合物发射光，以使样品离子化。当使用质谱仪时，MALDI离子源的激光器向样品和样品点中包含的基质的混合物发射光脉冲，以喷射出电离和非电离(即中性)样品(“分析物”)和来自样品点的基质。经过MALDI离子源的电极产生的电场将包含在该羽流中的电离材料(大部分为样品的离子和一些基质的离子)加速，从而穿过电极中的孔，供离子检测器检测。但是，在该羽流中的非电离材料(主要是非电离的基质和一些非电离的样品)通常会继续从样品点扩展，直到沉积在离子源附近的表面，例如MALDI离子源的电极表面。随着时间的流逝，未电离的样品和基质会在样品斑点附近的表面上堆积，尤其是在MALDI离子源的电极表面上，从而形成污染物材料的绝缘层，该绝缘层会随着时间的流逝而产生不利的电荷，影响MALDI离子源的运行。特别地，电极上的污染物材料的绝缘层会使电极产生的电场失真，从而使质谱仪的灵敏度或分辨率降低，因此，需要对电极片定期清洗。

目前，清洗电极片的主要方法是将装有电极的MALDI离子源腔体先排气再打开，以使电极片可以就地清洗或完全取出以进行彻底清洗。在这两种情况下，在清洗完毕后，通常还需要几个小时才能恢复MALDI离子源腔体的真空度，并执行高压调节，仪器调谐和质量校准程序，导致清洗过程复杂。

因此，有必要设计一种清洗装置来简化清洗过程，使得仪器无需破真空就可以清洗。

发明内容

本发明的目的在于提供一种质谱仪器极片清洗装置及清洗质谱仪器极片的方法。本发明提供的质谱仪器极片清洗装置在无需手动拆卸仪器(破真空)的情况下就可以清洗MALDI-MS仪器的第一加速极片，同时实现360度无死角清理，提高使用效率。

为了实现上述发明目的，本发明提供以下技术方案：

本发明提供了一种质谱仪器极片清洗装置，包括微波组件和矩管；

所述矩管包括由内向外嵌套设置的内管、中管和外管；所述中管一端的管壁上设有开口；

所述微波组件包括电连接的固态微波源和耦合环；所述固态微波源设置于矩管外；所述耦合环设置于所述中管上的开口处。

优选地，所述固态微波源上设有反射功率检测仪。

优选地，所述矩管未设置耦合环的一端设有调谐件，所述调谐件包括固定件和反射功率调节环。

优选地，所述反射功率调节环套于所述中管的外壁上，所述固定件设置于所述反射功率调节环的外侧，支撑所述外管。

优选地，所述内管远离微波组件的管口与载气输入管连接，所述中管远离微波组件的一端的管口与辅助气输入管连接。

优选地，所述外管上与所述耦合环对应的位置设置开口，所述耦合环通过微波传输线穿过所述开口与固态微波源连接。

本发明还提供了一种清洗质谱仪器极片的方法，采用上述技术方案所述质谱仪器极片清洗装置对质谱仪器极片进行清洗。