[发明专利]自动曝光控制系统及自动曝光控制方法有效
申请号: | 202011543485.0 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN112690811B | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 黄翌敏;何承林 | 申请(专利权)人: | 上海奕瑞光电子科技股份有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 施婷婷 |
地址: | 201201 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 曝光 控制系统 控制 方法 | ||
本发明提供一种自动曝光控制系统及自动曝光控制方法,包括:计算机,通过路由器与平板探测器通讯;平板探测器,执行自动曝光控制及图像采集,并发送闸断控制信号及采集到的信息;高压控制器,与平板探测器通讯,基于闸断控制信号关闭高压发生装置;球管,基于高压发生装置发出的高压信号发出X射线。本发明采用无线方式传输闸断控制信号,应用场景不限;基于平板探测器的曝光辐照射野区域的曝光剂量检测实现自动曝光控制并实时统计或者预测曝光结束时的曝光剂量,结构简单、成本低,可有效避免线路延迟等问题造成的曝光剂量误差;同时采图周期短、操作复杂度低。
技术领域
本发明涉及平板探测领域,特别是涉及一种自动曝光控制系统及自动曝光控制方法。
背景技术
平板探测器是上个世纪开始诞生的X射线影像新型检测技术,以成像速度快、分辨率高等特点著称,广泛应用于医疗检测、无损检测、安检、反恐等领域。目前,传统AEC(Automatic Exposure Control,自动曝光控制)均借助电离室(主要有气态电离室、固态电离室两种)进行曝光剂量的检测;随着曝光剂量的增加,电离室输出信号的电压值线性增加。高压发生器接收电离室的输出信号,对该信号的电压值实时检测,当该电压值达到设定阈值电压时,高压发生器闸断曝光,但是从电离室输出信号达到设定阈值到高压发生器闸断存在线路的延时,当高压发生器闸断时实际曝光剂量已经超出了预设曝光剂量,导致曝光剂量存在误差,直接影响图像质量。
电离室设置于平板探测器的表面,且电离室需要通过专用线缆与高压发生器连接,结构复杂度和成本均较高。为了克服以电离室方式进行自动曝光控制带来的结构复杂、成本高等问题,现有技术中还提出了一些不需要电离室的自动曝光控制方法,但是均存在一定的曝光剂量误差问题;同时,探测器仍然需通过专用线缆将闸断信号传递给高压发生器,限制了数字自动曝光控制的使用场景。
因此,如何确保曝光剂量准确性、简化结构复杂度、降低成本,同时拓展应用场景,已成为本领域技术人员亟待解决的问题之一。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种自动曝光控制系统及自动曝光控制方法,用于解决现有技术中自动曝光控制应用场景受限、成本高、结构复杂、曝光误差大等问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种自动曝光控制系统,所述自动曝光控制系统至少包括:
计算机、路由器、平板探测器、高压控制器、高压发生装置及球管;
所述计算机通过所述路由器与所述平板探测器通讯,向所述平板探测器发送控制指令并接收所述平板探测器采集到的信号;
所述平板探测器执行自动曝光控制及图像采集,并发送闸断控制信号及采集到的信息;
所述高压控制器接收所述平板探测器发出的闸断控制信号,基于所述闸断控制信号关闭所述高压发生装置;
所述球管连接所述高压发生装置,基于所述高压发生装置发出的高压信号产生X射线。
可选地,所述平板探测器包括探测面板及自动曝光控制模块;所述探测面板对X射线进行检测并转换为电信号;所述自动曝光控制模块连接所述探测面板的输出端,基于所述探测面板的输出信号判断曝光结束时的曝光剂量,并触发闸断控制信号。
可选地,所述平板探测器包括探测面板及自动曝光控制模块;所述探测面板对X射线进行检测并转换为电信号;所述自动曝光控制模块连接所述探测面板的输出端,基于所述探测面板的输出信号实时判断曝光剂量,并触发闸断控制信号。
更可选地,所述自动曝光控制模块包括检测单元及逻辑比较单元,所述检测单元基于曝光剂量率及信号传输链路延迟时长预测曝光结束时的曝光剂量;所述逻辑比较单元连接所述检测单元的输出端,当所述检测单元预测的曝光结束时的曝光剂量达到曝光剂量阈值时,触发所述闸断控制信号。
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