[发明专利]一种磁铁旋转靶枪

权利要求书

1.一种磁铁旋转靶枪，包括设置在靶枪腔体内的由上至下依次设置的靶材(1)、基板及磁控组件，所述磁控组件包括外圈磁铁(2)、设置在所述外圈磁铁(2)内侧的中心磁铁(3)及包覆所述外圈磁铁(2)和所述中心磁铁(3)的包覆层(4)，其特征在于，增设了与所述磁控组件连接的驱动装置(5)，所述驱动装置(5)驱动所述磁控组件转动或者往复移动，所述基板包括上板(6)及下板(7)，所述上板(6)与所述下板(7)之间形成密封的冷却空腔(8)，所述基板下方借助第一密封圈(9)与靶枪腔体形成密封连接。

2.根据权利要求1所述的磁铁旋转靶枪，其特征在于，所述上板(6)与所述下板(7)之间增设有第二密封圈(10)，所述冷却空腔(8)内通冷却剂。

3.根据权利要求2所述的磁铁旋转靶枪，其特征在于，所述上板(6)为无氧铜，所述下板(7)为非导磁金属。

4.根据权利要求1或3所述的磁铁旋转靶枪，其特征在于，所述磁控组件与所述基板之间存在间距，间距为1～2mm。

5.根据权利要求1所述的磁铁旋转靶枪，其特征在于，所述靶材(1)和所述基板为圆形或者矩形，所述外圈磁铁(2)包括外轮廓部(11)和内凹部(12)，所述内凹部(12)靠近所述中心磁铁(3)。

6.根据权利要求5所述的磁铁旋转靶枪，其特征在于，所述驱动装置(5)为电机或者电缸。

7.根据权利要求6所述的磁铁旋转靶枪，其特征在于，所述包覆层(4)为绝缘层。

8.根据权利要求7所述的磁铁旋转靶枪，其特征在于，所述包覆层(4)为聚四氟乙烯。

9.根据权利要求7所述的磁铁旋转靶枪，其特征在于，所述包覆层(4)为具有绝缘薄膜的金属层。