[发明专利]二维小角X射线散射图谱计算方法和装置

权利要求书

1.一种二维小角X射线散射2DSAXS图谱计算方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

S1：获取第i个散射体的形状参数、尺寸参数和角度参数，所述i为大于或等于零的整数；

S2：根据所述第i个散射体的形状参数、尺寸参数和角度参数确定所述第i个散射体的目标三维矩阵M_i；

S3：对所述目标三维矩阵M_i进行投影，得到二维投影矩阵K_i；

S4：对所述二维投影矩阵K_i进行傅里叶运算，得到所述第i个散射体的2DSAXS图谱矩阵L_i；

S5：将所述第i个散射体的2DSAXS图谱矩阵L_i与第i-1个散射体的2DSAXS图谱矩阵L_i-1中对应元素相加并取均值，得到矩阵L_i^’，将所述矩阵L_i-1与所述矩阵L_i^’中对应元素相减，得到矩阵L_i^’’；

判断所述矩阵L_i^’’中各元素绝对值的最大值是否小于或等于预设阈值，若是，则将所述2DSAXS图谱矩阵L_i对应的2DSAXS图谱作为目标2DSAXS图谱，若否，令i=i+1，并重复上述步骤S1-S5。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述第i个散射体的形状参数、尺寸参数和角度参数确定所述第i个散射体的目标三维矩阵M_i，包括：

根据所述第i个散射体的形状参数、尺寸参数生成所述第i个散射体的初始三维矩阵；

根据所述第i个散射体的角度参数确定所述第i个散射体的旋转矩阵；

将所述第i个散射体的初始三维矩阵乘以所述第i个散射体的旋转矩阵，得到所述第i个散射体的目标三维矩阵M_i。

3.一种二维小角X射线散射2DSAXS图谱计算方法，其特征在于，所述方法包括：

获取N个散射体的N组形状参数、尺寸参数、角度参数和中心坐标，所述N个散射体与所述N组形状参数、尺寸参数、角度参数和中心坐标一一对应；

根据所述N个散射体中每个散射体的形状参数、尺寸参数、角度参数和中心坐标生成所述每个散射体的初始三维矩阵，根据所述每个散射体的角度参数确定所述每个散射体的旋转矩阵；将所述每个散射体的初始三维矩阵乘以所述每个散射体的旋转矩阵，得到所述每个散射体的参考三维矩阵；将所述N个散射体的N个参考三维矩阵中的各元素进行累加并取平均值，得到目标三维矩阵；其中，所述目标三维矩阵表征所述N个散射体的形状、尺寸、取向及该N个散射体在三维坐标系中的位置；

对所述目标三维矩阵进行投影，得到二维投影矩阵；

对所述二维投影矩阵进行傅里叶运算，得到目标2DSAXS图谱矩阵；将所述目标2DSAXS图谱矩阵对应的2DSAXS图谱作为目标2DSAXS图谱。

4.根据权利要求3中所述方法，其特征在于，所述方法还包括：

在得到所述目标三维矩阵之后，当所述N个散射体中任意两个散射体发生重叠时，将所述目标三维矩阵中表征重叠部分的元素置零。

5.根据权利要求3或4所述方法，其特征在于，所述方法还包括：

在得到所述目标三维矩阵之后，当由所述N个散射体构成的三维模型的尺寸大于预设长方体的尺寸时，将超出所述预设长方体范围的散射体从另一端补齐，填入所述预设长方体中，并根据散射体的位置变化更新所述目标三维矩阵。

6.一种二维小角X射线散射2DSAXS图谱计算装置，其特征在于，所述装置包括用于执行上述权利要求1-5中任一项所述方法的模块。

7.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储用于设备执行的程序代码，该程序代码用于执行如权利要求1至5中任一项所述的方法。

8.一种芯片，其特征在于，所述芯片包括处理器与数据接口，所述处理器通过所述数据接口读取存储器上存储的指令，以执行如权利要求1至5中任一项所述的方法。