[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202011507068.0 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN112631031B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 方正;梁蓬霞;石戈;杨松;刘玉杰;韩佳慧;孙艳六;崔贤植;李鸿鹏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

本文提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置。阵列基板包括:基底和设置于基底上的多条数据信号线、多条扫描信号线和像素单元,像素单元包括第一电极和设置于第一电极朝向基底一侧的第二电极,第一电极包括沿第一方向延伸并沿第二方向间隔设置的多条第一条状电极和连接多条第一条状电极在第一方向上一端的第一连接电极,第二电极包括沿第二方向延伸并沿第一方向间隔设置的多条第二条状电极,在第一方向上,多条第二条状电极的宽度沿着远离第一连接电极的方向依次增加。本文通过将多条第二条状电极在第一方向上的宽度设置为沿着远离第一连接电极的方向依次增加,促使液晶冲突区域向远离第一连接电极的一侧偏移。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,更具体地,涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

液晶面板按照显示模式可以分为:扭曲向列(TN,TwistedNematic)型、平面转换(IPS,InPlane Switching)型和高级超维场开关(ADS,Advanced Super DimensionSwitch)型等。其中,ADS显示模式的液晶面板是通过同一平面内狭缝电极边缘区所产生的电场以及狭缝电极与板状电极层间产生的电场形成多维电场,使在电极之间和电极正上方的所有液晶分子发生旋转,相对于IPS显示模式的液晶面板,能够提高液晶的工作效率且增加了透光效率。ADS显示模式的液晶面板具有高画面品质、高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差、无水波纹(pushMura)等优点。但是相对于垂直配向的VA(VerticalAlignment)模式,ADS显示模式在对比度指标上表现欠佳。为改善ADS显示模式的对比度问题,人们提出了基于ADS显示模式的面内偏转的并垂直配向的器件方案,因为ADS边缘电场的对称性,液晶驱动时会存在冲突的情况,导致出现暗线,即相错(disclination)。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本发明实施例提供了一种阵列基板,包括:基底和设置于基底上的多条数据信号线、多条扫描信号线和多条数据信号线与多条扫描信号线交叉限定的像素单元,多条数据信号线在第一方向上间隔,多条扫描信号线在第二方向上间隔,第一方向和第二方向相交,像素单元包括第一电极和设置于第一电极朝向基底一侧的第二电极,第一电极和第二电极位置对应,第一电极包括沿第一方向延伸并沿第二方向间隔设置的多条第一条状电极和连接多条第一条状电极在第一方向上一端的第一连接电极,第二电极包括沿第二方向延伸并沿第一方向间隔设置的多条第二条状电极,多条第二条状电极位于第一连接电极在靠近第一条状电极的一侧,在第一方向上,多条第二条状电极的宽度沿着远离第一连接电极的方向依次增加。

在一些示例性实施例中,在第一方向上,多条第二条状电极在基底上的正投影的外边缘位于多条第一条状电极在基底上的正投影的外边缘的内侧。

在一些示例性实施例中,在第二方向上,多条第一条状电极在基底上的正投影的外边缘位于多条第二条状电极在基底上的正投影的外边缘的内侧。

在一些示例性实施例中,多条第二条状电极在第一方向上等间距设置。

在一些示例性实施例中,相邻第二条状电极之间的间距为2微米到4微米。

在一些示例性实施例中,邻近第一连接电极的第二条状电极在第一方向上的宽度为2微米到3微米。

在一些示例性实施例中,在第二方向上,多条第一条状电极的宽度相等,且等间距设置。

在一些示例性实施例中,在第二方向上,相邻的第一条状电极之间的间距与第一条状电极的宽度的比值为1.1到3。

在一些示例性实施例中,在第二方向上,相邻的第一条状电极之间的间距为4微米到6微米,第一条状电极的宽度为2微米到3微米。

在一些示例性实施例中,第二电极还包括连接多条第二条状电极在第二方向上一端的第二连接电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011507068.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top