[发明专利]高碱稳定性阴离子交换膜及其制备方法

权利要求书

1.一种聚乙烯基聚合物，其特征在于，具有如下结构：

其中p为碳原子数，p＝0～15；n为聚合度，100≤n≤200的整数。

2.如权利要求1所述的聚乙烯基聚合物的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：

步骤1，聚合单体的制备：

在甲苯的二氯甲烷中，缓慢滴加丙烯酰氯的二氯甲烷溶液，加入氯化铝作为催化剂，在0℃下反应，经二氯甲烷萃取得聚合单体；

步骤2，聚乙烯基酮聚合物的制备：

将干燥纯净的上述聚合单体溶于甲苯，加入引发剂偶氮二异丁腈，60℃下反应，反应结束后，析出，得到聚乙烯基酮聚合物；

步骤3，溴代聚乙烯基酮聚合物PVBK-Br的制备：

将聚乙烯基酮聚合物、N-溴代琥珀酰胺、溶于四氯乙烷中，加入偶氮二异丁腈作为引发剂，80℃下反应，得到溴代聚合物，析出，得到溴代聚乙烯基酮聚合物；

步骤4，溴代聚乙烯基聚合物的制备：

将溴代聚乙烯基酮聚合物、三乙基硅烷、三氟乙酸溶于1,2-二氯乙烷中，室温下，得到溴代聚乙烯基聚合物；

步骤5，聚乙烯基聚合物的制备：

将溴代聚乙烯基聚合物；和单体x溶于二甲基乙酰胺中，反应结束后，析出,得到所述聚乙烯基聚合物。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，60℃下反应2～4小时。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，单体x为p＝0-15。

5.一种聚乙烯阴离子交换膜，将权利要求1所述的聚合物溶于有机溶剂中制成一定浓度的均相溶液；将溶液置于70-90℃下除气；除气完毕后，将所述溶液按照所需体积倒入洁净容器中，在70-90℃温度下，利用溶液浇铸得到阴离子交换膜。