[发明专利]一种用于校正高度与平面度的模具结构及其校正工艺有效

专利信息
申请号: 202011491517.7 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112719079B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 黄旺洲;张泽鹏;杨佳仁 申请(专利权)人: 漳州锐腾电器有限公司
主分类号: B21D37/10 分类号: B21D37/10
代理公司: 泉州市潭思专利代理事务所(普通合伙) 35221 代理人: 林丽英
地址: 363900 福建省*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 校正 高度 平面 模具 结构 及其 工艺
【说明书】:

发明公开了一种用于校正高度与平面度的模具结构,包括校形结构组件,所述校形结构组件包括校平面凸模、校平面凹模以及校高浮块,所述校平面凹模内部形成有用于容纳所述校高浮块的凹槽,所述校平面凸模设置在所述校高浮块上方,所述校高浮块与校平面凸模相对一端的顶面边沿与所述校平面凹模之间形成有用于校正零件高度的第一环形凹陷槽。本发明的有益效果是:利用校平面凸模、校平面凹模以及校高浮块相互配合,实现高度和平面度的校正,其中校高浮块上设置有第一环形凹陷槽,替换了现有技术中校高浮块上材料强度较弱、容易崩坏的部分,整体材料强度足够,零件不再容易崩坏,模具使用寿命大幅度延长,降低成本支出。

技术领域

本发明涉及整形模具领域,具体而言,涉及一种用于校正高度与平面度的模具结构及其校正工艺。

背景技术

零件在生产制造过程中常常由于受不同批次的材料抗拉强度影响较大,因此就需要进行零件的校形。

如图1至2所示,旧式校正结构中采用的用于校高的校高模具校正浮块强度很差,由于实际用于校高的部分只有一个材料厚度,因此在批量生产中经常崩损,期间若有错位等模具异常也会打坏;此外镶件的精度要求很高,加工工艺复杂造价昂贵,并且传统工艺中使用的模具用于校正高度与平面度时的效果也没有十分理想,校正质量不高。有鉴于此,本发明人针对现有技术中的上述缺陷进行研究,遂有本案产生。

发明内容

针对现有技术中校正高度和平面度的模具,用于校高的部分材料较弱,容易出现崩损,模具使用成本高,并且产品校正质量不高等问题,本发明提供了一种用于校正高度与平面度的模具结构,包括校形结构组件,所述校形结构组件包括校平面凸模、校平面凹模以及校高浮块,所述校平面凹模内部形成有用于容纳所述校高浮块的凹槽,所述校平面凸模设置在所述校高浮块上方,所述校高浮块与校平面凸模相对一端的顶面边沿与所述校平面凹模之间形成有用于校正零件高度的第一环形凹陷槽。

将零件放置在校平面凸模、校平面凹模以及校高浮块之间,通过夹紧和挤压作用对零件进行高度和平面度的校正,其中校高浮块与校平面凸模相对一端的顶面边沿与所述校平面凹模之间形成有第一环形凹陷槽,相对于现有技术中的校高浮块,第一环形凹陷槽替换了现有技术中校高浮块上材料强度较弱、容易崩坏的部分,整体材料强度足够,在进行零件校高和进行平面度校正的时候不容易崩坏,模具使用寿命大幅度延长。

优选地,所述第一环形凹陷槽宽度大于零件厚度,所述第一环形凹陷槽与零件厚度之差小于0.05mm。

优选地,所述第一环形凹陷槽与零件厚度之差小于或等于0.03mm。

第一环形凹陷槽与零件之间设置有间隙且间隙不大于0.05mm,能够方便零件顺利套入第一环形凹陷槽内,在后续脱料时也更加容易,不会抱死在校正模具上;根据实际使用,第一环形凹陷槽与零件之间间隙设置为0.03mm最为适宜。

优选地,所述第一环形凹陷槽远离相邻校平面凹模一侧侧面与所述校高浮块顶面之间采用半径≥0.5mm的圆弧过渡。采用圆弧过渡可以防止校高浮块在作业过程中划伤零件表面。

优选地,所述校平面凸模与校平面凹模相对一端的底面边沿设置有第二环状凹陷槽,所述第二环状凹陷槽与所述校平面凸模的主体部分通过圆弧R2过渡,所述校平面凹模靠近校高浮块一侧侧面与校平面凹模顶面之间通过圆弧R1过渡,所述圆弧R1所在圆的半径小于圆弧R2所在圆的半径与一个材料厚度之差。

相比于现有技术,所述圆弧R1所在圆的半径小于圆弧R2所在圆的半径与一个材料厚度之差,即所述校平面凹模与所述校平面凸模在作业时,对夹紧的零件产生一个过压效果,使零件R角产生塑性变形从而改善平面度,平面度改善效果好,同时过压效果能够更好的撑住R角,帮助校高浮块能更加有效的校形零件的高度。

优选地,其中R2半径为0.9mm,R1半径为0.4mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于漳州锐腾电器有限公司,未经漳州锐腾电器有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011491517.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top