[发明专利]用于处理电路版图的方法、设备和存储介质在审

专利信息
申请号: 202011491209.4 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112580296A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 全芯智造技术有限公司
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 黄倩
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 处理 电路 版图 方法 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种处理电路版图的方法,包括:

生成用于对电路版图执行设计规则检查的多个子作业,其中每个子作业对应于所述电路版图的一个版图单元,并且至少指定要对所述版图单元执行设计规则检查的一个或多个操作;

基于多个处理设备的配置信息和所述一个或多个操作的复杂度,将所述多个子作业分配给所述多个处理设备,所述多个处理设备中的至少一个处理设备被配置有加速处理资源;以及

基于所述多个处理设备对所述多个子作业处理的结果,确定对所述电路版图执行设计规则检查的检查结果。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述复杂度取决于所述一个或多个操作是否涉及对所述版图单元中的几何图形的相对位置的处理。

3.根据权利要求2所述的方法,其中基于多个处理设备的所述配置信息和所述一个或多个操作的复杂度,将所述多个子作业分配给所述多个处理设备包括:

基于所述多个处理设备的所述配置信息,从所述多个处理设备中确定多对处理设备,每对处理设备包括未被配置有所述加速处理资源的第一处理设备和被配置有所述加速处理资源的第二处理设备;以及

如果所述一个或多个操作包括第一操作和复杂度高于所述第一操作的第二操作,其中所述第一操作不涉及对所述相对位置的处理并且所述第二操作涉及对所述相对位置的处理,则将所述每个子作业分配给所述多对处理设备中的相应的一对处理设备,使得所述第一操作由所述第一处理设备执行,并且所述第二操作由所述第二处理设备执行。

4.根据权利要求2所述的方法,其中基于多个处理设备的所述配置信息和所述一个或多个操作的复杂度,将所述多个子作业分配给所述多个处理设备包括:

基于所述多个处理设备的所述配置信息,从所述多个处理设备中确定第一组处理设备和第二组处理设备,所述第一组处理设备为未被配置有所述加速处理资源的一组处理设备,所述第二组处理设备为被配置有所述加速处理资源的一组处理设备;

如果所述多个子作业中的第一组子作业包括第一操作且不包括复杂度高于所述第一操作的第二操作,其中所述第一操作不涉及对所述相对位置的处理并且所述第二操作涉及对所述相对位置的处理,则将所述第一组子作业分配给所述第一组处理设备;以及

如果所述多个子作业中的第二组子作业包括所述第二操作而不包括所述第一操作,则将所述第二组子作业分配给所述第二组处理设备。

5.根据权利要求4所述的方法,其中第一版图单元的尺寸不同于第二版图单元的尺寸,所述第一版图单元为与所述第一组子作业中的每个子作业相对应的版图单元,并且所述第二版图单元为与所述第二组子作业中的每个作业相对应的版图单元。

6.根据权利要求1所述的方法,其中所述每个子作业还指定图案搜索操作,所述图案搜索操作用于从所述版图单元确定多个图案,每个图案包括所述版图单元的至少一个几何图形,并且生成所述多个子作业包括:

将所述每个子作业设置为对通过所述图案搜索操作而确定的所述多个图案执行所述一个或多个操作。

7.根据权利要求6所述的方法,其中所述每个子作业还指定图案分类操作,所述图案分类操作用于从所述多个图案中确定属于相同类型的一组图案并且从所述一组图案中选择参考图案,并且将所述每个子作业设置为对所述多个图案执行所述一个或多个操作包括:

将所述每个子作业设置为:

对所述参考图案执行所述一个或多个操作,以获得对所述参考图案的检查结果;并且

通过将所述检查结果应用于所述一组图案中除所述参考图案之外的其余图案,对所述其余图案执行所述一个或多个操作。

8.根据权利要求1所述的方法,其中所述一个或多个操作包括以下至少一项:

针对所述版图单元中的一组几何图形的偏置操作,

用于组合所述版图单元中的几何图形的组合操作,

用于改变所述相对位置的几何图形移位操作,或

用于改变所述相对位置的几何图形边缘移动操作。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于全芯智造技术有限公司,未经全芯智造技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011491209.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top