[发明专利]用于平板显示器中的相移空白掩膜和光掩膜

权利要求书

1.一种用于平板显示器(FPD)中的相移空白掩膜，该相移空白掩膜包括：

位于透明衬底上的相移膜，

其中所述相移膜包括：

控制曝光光线的透射率的透射衰减层；以及

控制所述曝光光线的相移量的相移层。

2.根据权利要求1所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述透射衰减层由主要包含铬(Cr)并且包含氮(N)和碳(C)中的一种或多种轻元素的材料制成。

3.根据权利要求2所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述透射衰减层的组成比为50原子％至100原子％的铬(Cr)、0原子％至50原子％的氮(N)和0原子％至50原子％的碳(C)。

4.根据权利要求2所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述透射衰减层由进一步包含氟(F)、氢(H)和硼(B)中的一种或多种轻元素的材料制成。

5.根据权利要求1所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述透射衰减层的厚度为至

6.根据权利要求5所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中当将所述透射衰减层配置为多层时，各层的厚度为至

7.根据权利要求1所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述相移层由主要包含铬(Cr)并且包含氧(O)、氮(N)和碳(C)中的一种或多种轻元素的材料制成。

8.根据权利要求7所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述相移层的组成比为10原子％至60原子％的铬(Cr)、0原子％至60原子％的氮(N)、0原子％至60原子％的氧(O)和0原子％至40原子％的碳(C)。

9.根据权利要求1所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述相移层的厚度为至

10.根据权利要求9所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中当将所述相移层配置为两层或更多层的多层时，各层的厚度为至

11.根据权利要求1所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述透射衰减层包括形成于所述透明衬底上的第一透射衰减层以及形成于所述第一透射衰减层上的第二透射衰减层。

12.根据权利要求11所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述第一透射衰减层由主要包含铬(Cr)并且包含氮(N)和碳(C)中的一种或多种轻元素的材料制成，并且

所述第二透射衰减层由主要包含铬(Cr)并且包含氧(O)、氮(N)和碳(C)中的一种或多种轻元素的材料制成。

13.根据权利要求12所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述第一透射衰减层的组成比为50原子％至100原子％的铬(Cr)、0原子％至30原子％的氮(N)和0原子％至30原子％的碳(C)，并且

所述第二透射衰减层的组成比为5原子％至50原子％的铬(Cr)、0原子％至70原子％的氮(N)、0原子％至70原子％的氧(O)和0原子％至50原子％的碳(C)。

14.根据权利要求12所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述第一透射衰减层和所述第二透射衰减层中的至少任一者由进一步包含氟(F)、氢(H)和硼(B)中的一种或多种轻元素的材料制成。

15.根据权利要求11所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中所述第一透射衰减层的厚度为至并且所述第二透射衰减层的厚度为至

16.根据权利要求15所述的用于FPD中的相移空白掩膜，其中当将所述第一透射衰减层配置为多层时，各层的厚度为至并且

当将所述第二透射衰减层配置为多层时，各层的厚度为至