[发明专利]对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法

说明书

本发明提供提高对准精度的对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法。对准装置具备：第1照相机，拍摄形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记；第2照相机，具有与第1照相机不同的分辨率，拍摄对准标记；反射光取得用的第1光源，向对准标记照射光；透射光取得用的第2光源，向对准标记照射光；以及位置调整机构，基于由第1照相机或第2照相机拍摄由第1光源或第2光源照射了光的对准标记而得到的图像，调整基板与掩模的相对位置。使向对准标记照射光的光源在利用第1照相机取得对准标记的图像的情况下和利用第2照相机取得对准标记的图像的情况下不同。

技术领域

本发明涉及对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法。

背景技术

在有机EL显示装置(有机EL显示器)的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)时，将从成膜装置的蒸发源蒸发的蒸镀材料隔着形成有像素图案的掩模蒸镀于基板，由此形成有机物层、金属层。

在成膜装置中，为了提高成膜精度，在成膜工序之前，测定基板与掩模的相对位置，在相对位置偏移的情况下，使基板和/或掩模相对移动来调整(对准)位置。

基板与掩模的相对位置的测定通过利用设置于真空容器的外侧(大气侧)的上表面的对准照相机对形成于基板与掩模的对准标记进行拍摄来进行。由于真空容器内部较暗，因此在利用对准用的光源照射基板与掩模的对准标记的同时进行拍摄。

通常，对准用光源与对准照相机同样地设置在真空容器的外侧上表面。在该情况下，对准照相机接收来自基板和掩模的反射光，取得包含对准标记的图像，但由于在基板的设置有对准标记的部分及其周围的部分的反射光量的差小，因此存在对比度低、难以取得高分辨率的图像的问题。如果由对准照相机取得的图像的分辨率不充分高，则对准精度降低，使成膜精度降低。

为了以高分辨率拍摄对准标记，考虑将对准用光源设置在真空容器的内部的方法。由此，对准照相机相对于基板和掩模，使用从设置于相反侧的对准用光源照射并通过了基板和掩模的透射光，取得图像，因此能够取得相对高分辨率的图像。但是，如果对准标记不位于透射光的路径上，则在所取得的图像中不显现对准标记，因此存在无法识别对准标记的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供能够提高对准精度的对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法、电子器件的制造方法。

用于解决课题的技术方案

本发明的第1方式的对准装置，其特征在于，该对准装置具备：第1照相机，拍摄形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记；第2照相机，具有与所述第1照相机不同的分辨率，拍摄所述对准标记；反射光取得用的第1光源，向所述对准标记照射光；透射光取得用的第2光源，向所述对准标记照射光；以及位置调整机构，基于由所述第1照相机或所述第2照相机拍摄由所述第1光源或所述第2光源照射了光的所述对准标记而得到的图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置，使向所述对准标记照射光的光源在利用所述第1照相机取得所述对准标记的图像的情况下和利用所述第2照相机取得所述对准标记的图像的情况下不同。

本发明的第2方式的成膜装置，用于使蒸镀材料隔着掩模在基板上成膜，其特征在于，该成膜装置包括所述对准装置。

本发明的第3方式的对准方法，用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，该对准方法包括：第1图像取得步骤，利用第1照相机对由反射光取得用的第1光源以及透射光取得用的第2光源中的一方的光源照射了光的形成于基板或者掩模的对准标记进行拍摄，取得第1图像；第1相对位置调整步骤，基于所述第1图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置；第2图像取得步骤，利用具有与所述第1照相机不同的分辨率的第2照相机对由所述第1光源和所述第2光源中的另一方的光源照射了光的所述对准标记进行拍摄，取得第2图像；以及第2相对位置调整步骤，基于所述第2图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置。