[发明专利]一种用于陶瓷轴承球的抛光液及其制备方法

说明书

本发明涉及研磨抛光技术领域，具体而言，涉及一种用于陶瓷轴承球的抛光液及其制备方法。本发明抛光液主要由以下质量份数的组分组成：金刚石0.1～5份、润滑剂0.1～20份、悬浮剂0.1～10份、保水剂1～2份、分散剂0.1～15份和水50～80份。本发明的抛光液具有高效率、易清洗的特点，抛光后陶瓷轴承球的表面质量优异。

技术领域

本发明涉及研磨抛光技术领域，具体而言，涉及一种用于陶瓷轴承球的抛光液及其制备方法。

背景技术

工业技术的发展对机床和仪器设备精度、速度、可靠性等性能要求越来越高，相比传统的轴承钢，氧化铝、氮化硅、碳化硅等陶瓷球轴承具有使用寿命长、转速高、整体精度和刚度好、热稳定性能好以及无磁性等更优异的综合性能，具有非常广阔的应用前景。

随着科学技术的进步，陶瓷、合金等材料的应用越来越广泛，人们对这些材料的表面抛光精度要求也越来越高。然而，陶瓷材料硬度高、韧性较差，尤其是球形材料，生产加工工艺更加复杂，在抛光过程中容易产生划伤和啃伤，材料表面光洁度和粗糙度难以达到期望水平，影响最终的使用效果。

现有技术中陶瓷球用抛光液存在以下缺点：划伤和啃伤较严重，成品的表面质量不高，并且采用油性体系，增加了研磨后清洗过程的难度；采用汽油、酒精等具有较强的挥发性的溶剂，挥发气体会对操作人员有一定的身体损害。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种用于陶瓷轴承球的抛光液，以解决现有技术中的油性抛光液不易清洗、抛光效率低的问题。本发明中的抛光液具有高效率和易清洗的特点。

本发明的第二目的在于提供一种用于陶瓷轴承球的抛光液的制备方法，该方法简单易行，通过该方法得到具有高效率、易清洗、稳定均匀分散的水性金刚石抛光液，陶瓷轴承球抛光后表面质量优异。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

一种用于陶瓷轴承球的抛光液，主要由以下质量份数的组分组成：

金刚石0.1～5份、润滑剂0.1～20份、悬浮剂0.1～10份、保水剂1～2份、分散剂0.1～15份和水50～80份。

优选地，所述抛光液还包括pH值调节剂0.1～1份；

优选地，pH值调节剂包括AMP-95、AEEA和AN130中的至少一种；

优选地，所述抛光液的pH为9～12；

优选地，所述抛光液还包括防腐剂0.1～1份；

优选地，所述防腐剂包括苯甲酸钠、异噻唑啉酮和四氯间苯二甲腈中的至少一种。

优选地，所述金刚石包括单晶金刚石微粉、多晶金刚石微粉和类多晶金刚石微粉中的至少一种；

优选地，所述金刚石的粒径为100～10000nm；

更优选地，所述金刚石选自粒径为125～750nm的多晶金刚石微粉。

优选地，所述润滑剂包括乙二醇、二乙二醇、甘油、聚乙二醇200、聚乙二醇400、聚乙二醇600、木糖醇和山梨醇中的至少一种。

优选地，所述悬浮剂包括琼脂粉、硅酸镁锂、硅酸铝镁和卡波姆树脂中的至少一种。

优选地，所述保水剂包括环氧乙烷缩合物和/或多元醇。

优选地，所述分散剂包括脂肪醇醚磷酸酯、脂肪醇醚磷酸酯钾盐、异十三醇磷酸酯、聚乙二醇硬脂酸酯、聚乙二醇月硅酸酯和聚乙二醇油酸酯的至少一种。

如上所述的抛光液的制备方法，包括以下步骤：

将所述组分混合分散。