[发明专利]一种光学幕布的表层涂料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011480828.3 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112608677A 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 肖晓宇;黄奇 申请(专利权)人: 深圳市光科数字科技有限公司
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C09D7/61;C09D5/18;C09D5/08;C09D7/65
代理公司: 无锡风创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32461 代理人: 单虎
地址: 518000 广东省深圳市福田区福保街道*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光学 幕布 表层 涂料 及其 制备 方法
【说明书】:

发明涉及光学幕布技术领域,具体地说,涉及一种光学幕布的表层涂料及其制备方法。其包括以下原料组成:有机硅树脂60‑80份、溶剂20‑30份、流平剂3‑7份、阻燃剂2‑10份、填料20‑30份、增稠剂1‑5份、消泡剂1‑3份,本发明中,纳米级氢氧化镁在几乎不影响使用强度的情况下显著提高材料的阻燃、抑烟、防滴等性能,加入纳米级三氧化二锑与纳米级氢氧化镁进行共混,阻燃性能优良外,其机械性能都达到标准,其电性能和加工性能良好,且具有一定的抑烟效果,加入填料中可以改善物料性能,或能增容、增重,降低物料的成本的固体物质,填料在涂料中起骨架的作用,增加涂抹的厚度,降低涂料的成本,赋予涂料某些特殊性能,如耐腐蚀、耐热性、增容不强等作用。

技术领域

本发明涉及光学幕布技术领域,具体地说,涉及一种光学幕布的表层涂料及其制备方法。

背景技术

人眼所感知的精美画面直观显示在投影幕布上,优质的幕布不仅需实现对投影画面的完整再现,还要对色彩还原、亮度、对比度有促进作用,屏幕的好坏直接决定投影画面的完美程度。现有的投影银幕多少都存在投影的内容不清晰,投影的内容亮度不均匀,亮度增益低等问题,满足不了观众直观质量效果的愿望,目前市场所用的投影幕布通常为白塑布,在制备工艺中往往需要用到丝印油墨,采用丝网印刷方式将油墨印刷到投影幕布上,然后采用固化措施,使得投影幕布牢固经久耐用;

现有的光学幕布存在成本较高的问题,因此,市面上的投影幕布价格普遍较高,影响了销售量,同时由于阻燃性差,影响了其使用寿命,更加减少了使用者的数量,使用发现,光学幕布的阻燃性与其表面的涂层有关,因此需要一种新型的光学幕布的表面涂层来改善现有技术的不足。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光学幕布的表层涂料及其制备方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,一方面,本发明提供一种光学幕布的表层涂料,包括以下原料组成:有机硅树脂60-80份、溶剂20-30份、流平剂3-7份、阻燃剂2-10份、填料20-30份、增稠剂1-5份、消泡剂1-3份。

作为本技术方案的进一步改进,所述溶剂选自六甲基二硅氧烷,六甲基二硅氧烷为无色透明液体,无毒,稳定,作为有机硅树脂的溶剂使用,对硅树脂的溶解能力强于甲苯。

作为本技术方案的进一步改进,所述流平剂选自氟改性丙烯酸流平剂和磷酸酯改性丙烯酸流平剂中的至少一种,流平剂是一种常用的涂料助剂,它能促使涂料在干燥成膜过程中形成一个平整、光滑、均匀的涂膜。能有效降低涂饰液表面张力,提高其流平性和均匀性的一类物质,可改善涂饰液的渗透性,能减少刷涂时产生斑点和斑痕的可能性,增加覆盖性,使成膜均匀、自然。

作为本技术方案的进一步改进,所述阻燃剂选自纳米级三氧化二锑、纳米级氢氧化镁和氢氧化铝中的一种或多种混合,纳米级氢氧化镁在几乎不影响使用强度的情况下显著提高材料的阻燃、抑烟、防滴等性能,加入纳米级三氧化二锑与其进行共混,阻燃性能优良外,其机械性能都达到标准,其电性能和加工性能良好,且具有一定的抑烟效果。

作为本技术方案的进一步改进,所述填料选自滑石粉、云母粉、硫酸钡、硅藻土、玻璃粉和陶瓷粉中的至少一种,加入填料中可以改善物料性能,或能增容、增重,降低物料的成本的固体物质,填料在涂料中起骨架的作用,增加涂抹的厚度,降低涂料的成本,赋予涂料某些特殊性能,如耐腐蚀、耐热性、增容不强等作用。

作为本技术方案的进一步改进,所述增稠剂选自氯化钠,起到了增稠的作用,增稠效果明显。

作为本技术方案的进一步改进,所述消泡剂选自有机硅消泡剂,有机硅消泡剂由硅脂、乳化剂、防水剂、稠化剂等配以适量水经机械乳化而成,其特点是表面张力小,表面活性高,消泡力强,用量少,成本低。它与水及多数有机物不相混溶,对大多数气泡介质均能消泡。它具有较好的热稳定性,可在5℃-150℃宽广的温度范围内使用;其化学稳定性较好,难与其他物质反应,只要配置适当,可在酸、碱、盐溶液中使用,无损产品质量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市光科数字科技有限公司,未经深圳市光科数字科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011480828.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top