[发明专利]激光放大镜及激光放大装置在审
| 申请号： | 202011479244.4 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112615239A | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 陈翔宇;刘双龙;刘正一 | 申请（专利权）人： | 武汉菩济医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/06 | 分类号： | H01S3/06;H01S3/091 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 吕伟盼 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 放大镜 放大 装置 | ||
1.一种激光放大镜，其特征在于，包括激光增益介质、高透膜和高反膜，所述激光增益介质被设置为在被泵浦光激发后能放大入射的激光，所述激光增益介质具有相背的第一表面和第二表面；
所述激光增益介质的第一表面设有所述高透膜；
所述激光增益介质的第二表面设有所述高反膜。
2.根据权利要求1所述的激光放大镜，其特征在于，所述激光增益介质为激光晶体或者玻璃体。
3.根据权利要求2所述的激光放大镜，其特征在于，所述激光增益介质为Nd:YAG、Yb:YAG、Yb:glass、Er:YAG或者Ti:sapphire。
4.根据权利要求1所述的激光放大镜，其特征在于，所述高透膜采用蒸发沉积、等离子溅射或原子层沉积的方式设于所述激光增益介质的第一表面。
5.根据权利要求1所述的激光放大镜，其特征在于，所述高反膜采用蒸发沉积、等离子溅射或原子层沉积的方式设于所述激光增益介质的第二表面。
6.一种激光放大装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的激光放大镜、激光射装置和泵浦光投射装置；
所述泵浦光投射装置用于向所述激光放大镜投射泵浦光，以使所述激光放大镜的激光增益介质被泵浦光激发后能放大入射的激光；
所述激光射装置朝向所述激光放大镜的高透膜设置，以使激光经所述高透膜进入所述激光增益介质，再经所述激光放大镜的高反膜反射后，依次经所述激光增益介质和所述高透膜射出所述激光放大镜。
7.根据权利要求6所述的激光放大装置，其特征在于，所述泵浦光投射装置朝向所述激光放大镜的高透膜设置，以使同轴的激光和泵浦光垂直入射到所述激光放大镜上。
8.根据权利要求6所述的激光放大装置，其特征在于，所述激光增益介质还具有连接第一表面与第二表面的侧面；
所述泵浦光投射装置朝向所述激光增益介质的侧面设置。
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