[发明专利]一种Bi4 有效
申请号: | 202011474708.2 | 申请日: | 2020-12-14 |
公开(公告)号: | CN112495366B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 林毅;罗宏;潘冬梅;钟强 | 申请(专利权)人: | 四川轻化工大学 |
主分类号: | B01J23/22 | 分类号: | B01J23/22;B01J37/10;C02F1/30;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38 |
代理公司: | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人: | 万霞 |
地址: | 643000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 bi base sub | ||
本发明公开了一种Bi4V2O11/BiVO4异质结光催化剂的制备方法及应用,所述Bi4V2O11/BiVO4异质结光催化剂中Bi4V2O11的质量分数为3~24%,其按以下制备方法得到:将Bi(NO3)3·5H2O溶于乙二醇中得到溶液A,备用,其中Bi(NO3)3·5H2O摩尔量与乙二醇体积的比值为1mol:1~5L;将NH4VO3溶于氢氧化钠溶液中得到溶液B,备用;将溶液A和溶液B混合后得到溶液C,备用;将溶液C置入反应釜内,并在180℃的温度条件下反应24h,再对反应产物进行离心、洗涤、干燥后即得到所述Bi4V2O11/BiVO4异质结光催化剂。该制备方法可准确制备得到不同Bi4V2O11含量的Bi4V2O11/BiVO4异质结光催化剂,且工艺简单、效率高,有利于工业化生产。
技术领域
本发明属于半导体光催化材料技术领域,特别涉及一种Bi4V2O11/BiVO4异质结光催化剂的制备方法及应用。
背景技术
单斜晶系BiVO4(m-BiVO4)是一种对可见光响应的半导体材料,禁带宽度在2.4~2.5eV 之间,可吸收约11%的太阳能。由于m-BiVO4的价带电位相对于标准氢电极电位约为2.5eV,该电位赋予m-BiVO4充足的驱动力去氧化水分子以及降解各种有机化合物。并且m-BiVO4的导带边缘紧邻可逆氢电极电位,确保了m-BiVO4对水的分解可在较小的外部偏置电压下进行。此外,m-BiVO4具有无毒性、光化学性能稳定和制备成本相对低廉的特点。凭借上述特点,m-BiVO4在光催化领域受到了众研究人员的青睐。
然而,受限于电子传导能力不佳、载流子寿命短和氧化水速率缓慢等因素的制约,m-BiVO4无论是以粉状,还是以电极状的形态参与到光催化反应过程中时,其量子效率均无法满足工业化应用的要求。为解决该问题,在m-BiVO4中构建Bi4V2O11/BiVO4异质结,即通过一定方法构建m-BiVO4基异质结构来提高光生载流子的分离效率,进而大幅度提升材料的光子收割效率。不同Bi4V2O11含量的BiVO4/Bi4V2O11材料应用于不同领域,且 Bi4V2O11含量也并不是越大越好。
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