[发明专利]一种基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器在审
| 申请号： | 202011469474.2 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112558202A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 徐挺 | 申请（专利权）人： | 无锡光隐科技发展有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 高玲玲 |
| 地址： | 214028 江苏省无锡市新吴区净慧东道*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 介质 表面 偏振 无关 红外 色差 偏折器 | ||
1.一种基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器，其特征在于：所述红外消色差偏折器采用n个结构单元排列得到，n＞1；所述结构单元包括基底以及设置在基底上的微纳结构。
2.根据权利要求1所述的基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器，其特征在于：所述红外消色差偏折器为一维结构或二维结构。
3.根据权利要求1所述的基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器，其特征在于：所述结构单元的排列按照特定参考相位及相位对频率的偏导，结构单元的排列需要同时满足以下要求：
(1)超表面上的参考相位应满足式1分布：
其中，α为入射角，θ为出射波偏折角度，；λ0为参考波长；
(2)相位对频率ω的偏导需满足式2关系：
其中，c、α、θ和x分别为光速、入射角、出射波偏折角以及一维的空间位置坐标。
4.根据权利要求1所述的基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器，其特征在于：所述微纳结构的横截面为中心对称或各项异性的图形。
5.根据权利要求1所述的基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器，其特征在于：所述微纳结构的数量为1到3个。
6.根据权利要求1所述的基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器，其特征在于：所述基底和微纳结构采用对红外波段具有低损耗、高透过率的介质材料，所述介质材料为氟化钡、氟化钙、硅、锗或红外硫系玻璃，基底和微纳结构可采用相同或不同的介质材料。
7.根据权利要求1所述的基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器，其特征在于：所述结构单元基底是周期性的，基底的周期p小于或等于红外光波波长。
8.根据权利要求1所述的基于全介质超表面的偏振无关的红外消色差偏折器，其特征在于：所述微纳结构高度与长(或宽)的比值小于7：1。
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