[发明专利]排液结构、设备支撑底座以及制冷设备在审

专利信息
申请号: 202011467461.1 申请日: 2020-12-14
公开(公告)号: CN112484380A 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 李宏波;王升;孙栋军;雷伟锋 申请(专利权)人: 珠海格力电器股份有限公司
主分类号: F25D21/14 分类号: F25D21/14;F25D23/00;F25D13/00
代理公司: 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 代理人: 尹彦
地址: 519000*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 结构 设备 支撑 底座 以及 制冷
【权利要求书】:

1.一种排液结构,包括底板,用于支撑所述底板的底板框架结构,以及两端连接于底板框架结构的至少两个第二支撑件,其特征在于,至少一组相邻的所述第二支撑件之间设有用于收集所述底板表面液体的排液槽,所述排液槽设有排液口。

2.如权利要求1所述的排液结构,其特征在于,所述排液槽的侧壁与两侧的第二支撑件固定连接。

3.如权利要求1所述的排液结构,其特征在于,所述第二支撑件为C形支撑件,所述排液槽两侧的第二支撑件的开口朝向相背或相向。

4.如权利要求1所述的排液结构,其特征在于,所述排液槽设有至少两个时,至少两个所述排液槽间隔设置。

5.如权利要求1所述的排液结构,其特征在于,所述排液槽上设有与所述底板位于同一平面内的盖板,所述盖板上设有过滤通孔。

6.如权利要求5所述的排液结构,其特征在于,所述盖板上设有用于连接管道的管路排水口。

7.如权利要求1所述的排液结构,其特征在于,所述排液口处设有无缝管,所述无缝管贯穿所述底板框架结构将所述排液槽与外界连通。

8.如权利要求1所述的排液结构,其特征在于,所述底板框架结构中空,所述排液口贯穿所述底板框架结构的侧壁与外界连通。

9.一种设备支撑底座,其特征在于,包括权利要求1至8所述的排液结构。

10.一种制冷设备,其特征在于,包括权利要求9所述的设备支撑底座。

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