[发明专利]一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块有效
| 申请号: | 202011461654.6 | 申请日: | 2020-12-11 |
| 公开(公告)号: | CN112614928B | 公开(公告)日: | 2022-10-25 |
| 发明(设计)人: | 刘凌波;吴永庆;翟仁爽 | 申请(专利权)人: | 杭州大和热磁电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L35/02 | 分类号: | H01L35/02;H01L23/12;H01L35/04;H01L35/32;H05K9/00 |
| 代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 郑汝珍 |
| 地址: | 310051 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 屏蔽 底座 深度 半导体 制冷 模块 | ||
1.一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,包括依次固定连接设置的底座(8)、多层半导体制冷片和屏蔽片(1);底座(8)包括若干引脚,底座(8)的引脚分别与外部电源连接,底座(8)的引脚通过导线(7)与多层半导体制冷片连接;多层半导体制冷片的各层之间相应位置的半导体颗粒串联;
所述的底座(8)的引脚包括上引脚(81)和下引脚(82),上引脚(81)嵌套在下引脚(82)上,上引脚(81)的下方设置有挡沿(84),挡沿(84)与底座(8)内的顶面之间设置有弹簧(84);挡沿(84)与底座(8)的底面之间设置有用于抬起上引脚(81)的滑动卡座(85)。
2.根据权利要求1所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的底座(8)与多层半导体制冷片之间以及多层半导体制冷片和屏蔽片(1)之间通过焊锡焊接;所述的焊锡熔点在120~220℃之间,导热率在2.5~10W/(m·K)之间。
3.根据权利要求2所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的多层半导体制冷片与底座(8)之间的焊锡温度在200~220℃之间;屏蔽片(1)与多层半导体制冷片之间的焊锡温度在120~180℃之间。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的屏蔽片(1)包括一体的固定部和遮挡部,固定部与多层半导体焊接,固定部通过遮挡部与底座之间形成屏蔽腔,多层半导体制冷片设置在屏蔽腔内,屏蔽腔内抽真空。
5.根据权利要求1所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的多层半导体制冷片各层的半导体颗粒串联成若干个制冷回路,每个制冷回路均引出导线分别与底座的引脚连接。
6.根据权利要求1所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的滑动卡座(85)包括一体的卡接部和抬升部,卡接部与抬升部中间均设置有适配引脚宽度的容槽,卡接部与抬升部连接的另一端设置有卡扣,底座(8)底面设置有适配卡扣的卡槽和适配滑动卡座(85)滑动的滑槽,所述的抬升部呈高度逐渐上升的台状。
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