[发明专利]一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块有效

专利信息
申请号: 202011461654.6 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN112614928B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 刘凌波;吴永庆;翟仁爽 申请(专利权)人: 杭州大和热磁电子有限公司
主分类号: H01L35/02 分类号: H01L35/02;H01L23/12;H01L35/04;H01L35/32;H05K9/00
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 郑汝珍
地址: 310051 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 屏蔽 底座 深度 半导体 制冷 模块
【权利要求书】:

1.一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,包括依次固定连接设置的底座(8)、多层半导体制冷片和屏蔽片(1);底座(8)包括若干引脚,底座(8)的引脚分别与外部电源连接,底座(8)的引脚通过导线(7)与多层半导体制冷片连接;多层半导体制冷片的各层之间相应位置的半导体颗粒串联;

所述的底座(8)的引脚包括上引脚(81)和下引脚(82),上引脚(81)嵌套在下引脚(82)上,上引脚(81)的下方设置有挡沿(84),挡沿(84)与底座(8)内的顶面之间设置有弹簧(84);挡沿(84)与底座(8)的底面之间设置有用于抬起上引脚(81)的滑动卡座(85)。

2.根据权利要求1所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的底座(8)与多层半导体制冷片之间以及多层半导体制冷片和屏蔽片(1)之间通过焊锡焊接;所述的焊锡熔点在120~220℃之间,导热率在2.5~10W/(m·K)之间。

3.根据权利要求2所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的多层半导体制冷片与底座(8)之间的焊锡温度在200~220℃之间;屏蔽片(1)与多层半导体制冷片之间的焊锡温度在120~180℃之间。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的屏蔽片(1)包括一体的固定部和遮挡部,固定部与多层半导体焊接,固定部通过遮挡部与底座之间形成屏蔽腔,多层半导体制冷片设置在屏蔽腔内,屏蔽腔内抽真空。

5.根据权利要求1所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的多层半导体制冷片各层的半导体颗粒串联成若干个制冷回路,每个制冷回路均引出导线分别与底座的引脚连接。

6.根据权利要求1所述的一种带屏蔽层及底座的深度半导体制冷模块,其特征在于,所述的滑动卡座(85)包括一体的卡接部和抬升部,卡接部与抬升部中间均设置有适配引脚宽度的容槽,卡接部与抬升部连接的另一端设置有卡扣,底座(8)底面设置有适配卡扣的卡槽和适配滑动卡座(85)滑动的滑槽,所述的抬升部呈高度逐渐上升的台状。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州大和热磁电子有限公司,未经杭州大和热磁电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011461654.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top