[发明专利]用于气体室的维护设备

说明书

本发明涉及一种用于气体室(2.1至2.n)的维护设备(1)，维护设备具有：用于处理存在于至少一个气体室(2.1至2.n)中的气体的气体处理装置(3)；用于监测气体的至少一个气体特性的至少一个传感器装置；至少一个与气体处理装置(3)和至少一个传感器装置耦联的接头(7.1至7.n)，该接头构造成用于与气体室(2.1至2.n)耦联；至少一个用于将气体从气体室(2.1至2.n)输送到气体处理装置(3)中并且从气体处理装置(3)至少间接地输送回到气体室(2.1至2.n)中的输送装置(8)；以及至少一个控制单元(22)，该控制单元至少与传感器装置连接并且至少监测和控制所述输送装置(8)和/或所述气体处理装置(3)。

技术领域

本发明涉及一种用于气体室的维护设备。

背景技术

由现有技术通常已知具有气体室的设备，例如电开关设备，其中气体室是用于气体绝缘的电高压运行器件的容器。这种高压运行器件例如是电功率开关和测量变换器。

这种电高压运行器件填充有绝缘气体和灭弧气体作为保护气体，例如六氟化硫，简称SF₆。保护气体在预先给定的最小压力(例如6巴过压)下被封闭在相应的气体室中，并且使得在电触头断开时在电触头之间产生的电弧熄灭。在此，安全功能尤其取决于保护气体的纯度。保护气体的纯度尤其可能由于湿气或空气渗入保护气体体积中或由于产生保护气体的分解产物而受到损害。

即使气体室的运行压力是大气压的多倍，由于结构原因，通常也不能避免水蒸汽形式的湿气通过扩散渗入气体室中。渗入气体室的水蒸汽降低了保护气体的纯度，并且因此降低了其电气性能，尤其是其介电常数。然而，原则上，保护气体中的水分含量应当足够低，以使保护气体的压力露点不超过-5℃。

为了实现这一点，由EP 3 283 833 B1公知一种装置，该装置包括

-填充有保护气体的第一气体室和第二气体室，

-连接第一气体室和第二气体室的管路系统，

-布置在管路系统中的压缩机，

-布置在管路系统中的气体干燥总成，

-用于检测在管路系统内的气体压力的器件，

-阀，该阀可以被操控成，使得压缩机能够选择性地将气体从第一气体室输送到第二气体室中并且将气体从第二气体室输送到第一气体室中，

-用于根据管路系统内的气体压力控制压缩机的器件，以及

-用于根据气体的期望的输送方向控制所述阀的器件。

此外，描述了一种用于利用在过压下具有运行压力和预先给定的最小压力的在气体室中存在的保护气体气氛来干燥气体室的方法，其中监测气体室的所述预先给定的最小压力，并且所述运行压力大于所述最小压力。该方法包括以下步骤：

-从气体室中取出保护气体的第一部分量，其中所述部分量相当于小于或等于所述运行压力和所述最小压力之间的差值的压力差，

-将干燥的或变干的保护气体的第二部分量引入气体室中直至大于最小压力的气体压力，并且

-在预定的等待时间之后重复上述方法步骤。

发明内容

本发明的任务在于，提供一种用于气体室的新型的维护设备。

根据本发明，该任务通过具有本发明所说明的特征的维护设备来解决。

本发明的有利的设计方案是实施例的主题。