[发明专利]OLED器件的制备方法及OLED器件有效
| 申请号: | 202011454798.9 | 申请日: | 2020-12-10 |
| 公开(公告)号: | CN112599711B | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
| 发明(设计)人: | 彭灿 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/50;H01L21/02 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杜蕾 |
| 地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | oled 器件 制备 方法 | ||
1.一种OLED器件的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
S10,在一衬底基板上制备阳极金属层;
S20,在所述阳极金属层上采用喷墨打印工艺制备空穴注入层,若检测出所述空穴注入层的表面发生成膜不均匀现象,则对所述空穴注入层进行第一返工清洗流程后重新制备所述空穴注入层,直至所述空穴注入层的表面不发生成膜不均匀现象;其中,所述第一返工清洗流程包括溶剂喷淋制程、剥离液喷淋制程、水喷淋制程、清洁干燥空气热风风刀制程以及第一复烘烤制程;
S30,在所述空穴注入层上采用喷墨打印工艺制备空穴传输层,若检测出所述空穴传输层的表面发生成膜不均匀现象,则对所述空穴传输层进行第二返工清洗流程后重新制备所述空穴传输层,直至所述空穴传输层的表面不发生成膜不均匀现象;其中,所述第二返工清洗流程包括第一段所述溶剂喷淋制程、第二段所述溶剂喷淋制程、第三段所述溶剂喷淋制程、氮气热风风刀制程以及第二复烘烤制程;
S40,在所述空穴传输层上采用喷墨打印工艺制备有机发光层,若检测出所述有机发光层的表面发生成膜不均匀现象,则对所述有机发光层进行所述第二返工清洗流程后重新制备所述有机发光层,直至所述有机发光层的表面不发生成膜不均匀现象;
S50,依次在所述有机发光层上沉积电子传输层、电子注入层以及阴极金属层,最后得到所述OLED器件。
2.根据权利要求1所述的OLED器件的制备方法,其特征在于,所述第一返工清洗流程处于密封的清洁干燥空气氛围,所述第二返工清洗流程处于密封的氮气氛围。
3.根据权利要求1所述的OLED器件的制备方法,其特征在于,所述剥离液喷淋制程中采用的剥离液为单乙醇胺、二甲亚砜以及四甲基氢氧化胺中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的OLED器件的制备方法,其特征在于,所述第一复烘烤制程的烘烤温度为200~250℃,所述第一复烘烤制程的烘烤时间为5min~25min。
5.根据权利要求1所述的OLED器件的制备方法,其特征在于,所述溶剂喷淋制程中采用的有机溶剂为2,3-丁二醇、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、一缩二丙二醇一甲醚、苯、丙酮、四氯化碳、己烷以及二甲苯中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的OLED器件的制备方法,其特征在于,所述第二复烘烤制程的烘烤温度为160~230℃,所述第二复烘烤制程的烘烤时间为5min~25min。
7.根据权利要求1所述的OLED器件的制备方法,其特征在于,所述喷墨打印工艺包括滴入有机墨水阶段、冷真空干燥阶段以及烘烤阶段。
8.一种OLED器件,其特征在于,所述OLED器件由如权利要求1至7任一项所述的OLED器件的制备方法制备而成。
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