[发明专利]一种次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法

权利要求书

1.一种次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法包括以下内容：

步骤一、根据需要配制浓度为10%~30%的氢氧化钠溶液；

步骤二、然后将配制好的氢氧化钠溶液过量添加到次磷酸钠溶液中搅拌混合均匀；

步骤三、在搅拌状态下向步骤二中的混合溶液内通入二氧化碳气体，所述二氧化碳气体在碱性环境下反应生成碳酸根离子，然后所述碳酸根离子再与至溶液中的钙离子反应生成碳酸钙沉淀，待反应完全后通过过滤去除所有的碳酸钙沉淀；

步骤四、在搅拌状态下向步骤三中过滤后的溶液内添加次磷酸中和过量的氢氧根离子得到次磷酸钠母液。

2.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述步骤二中氢氧化钠添加的终点为溶液的PH值超过10。

3.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述步骤二、步骤三和步骤四中溶液的搅拌速度为30~50r/min。

4.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述步骤三中溶液的温度为50~70℃。

5.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述二氧化碳通入的时间为15~30min。

6.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，二氧化碳通入结束后还需要继续搅拌10~15分钟。

7.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述步骤四中次磷酸的添加终点为溶液PH值为6.5~7.5。

8.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所属步骤四中添加的次磷酸的浓度为10~30%。