[发明专利]一种晶圆用高温药液清洗设备及其清洗工艺

权利要求书

1.一种晶圆用高温药液清洗设备，其特征在于，包括：

清洗室，所述清洗室内具有放置空间；

腔体，所述腔体设于所述放置空间内，且，所述腔体内具有容纳空间；

承载台，所述承载台可转动的设于所述容纳空间内；

卡盘销，多个所述卡盘销设于所述承载台上，用于夹持晶圆；

定位盘，所述定位盘设置在所述承载台，且，所述定位盘位于所述晶圆的下方；

下加热板，所述下加热板可转动设于定位盘内，且，所述下加热板可升降的设于所述定位盘和所述晶圆之间，其中，所述下加热板上开有进液口和排液口；

第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和第二喷嘴可上下移动的设于所述下加热板的下方，其中，当所述下加热板转动时，所述进液口与所述第一喷嘴或所述第二喷嘴相通；

第三喷嘴，多个所述第三喷嘴设于所述晶圆的上方。

2.根据权利要求1所述的晶圆用高温药液清洗设备，其特征在于：在所述晶圆上方还设有两个可相对横向移动的左加热板和右加热板，且所述左加热板和右加热板可上下移动；在所述左加热板或所述右加热板上开有喷液口。

3.根据权利要求1所述的晶圆用高温药液清洗设备，其特征在于：所述清洗室呈密闭状，所述清洗室通过两侧的排气阀排气，在所述排气阀一侧开有与腔体相连通的排气口。

4.利用如权利要求1或3所述的一种晶圆用高温药液清洗设备进行清洗的工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S01：晶圆经由卡盘销固定后通过承载台做旋转运动，同时下加热板也转动一定角度后，使进液口与第一喷嘴上下相对应；

S02：第一喷嘴往上移动到进液口处，两个第三喷嘴分别将DHF和DIW喷到晶圆的上表面进行清洗；

S03：下加热板和第一喷嘴同步上升，使下加热板与晶圆靠近；下加热板加热升温，然后利用第一喷嘴将磷酸喷到晶圆的下表面，同时第三喷嘴将DIW喷到晶圆的上表面进行清洗；

S04：第三喷嘴将磷酸喷射到晶圆的上表面进行清洗；

S05：第一喷嘴回到初始位置，同时加热板下降的同时转动一定位置，使进液口与第二个喷嘴上下相对应；

S06：第二个喷嘴上升到进液口处,依次将APM、DIW和氮气喷射到晶圆的下表面进行清洗和甩干；同时晶圆的上表面先由第三喷嘴喷出DIW冲洗，再用雾化的APM进行清洗；

S07：晶圆转动甩干，并通氮气吹干。

5.利用如权利要求2所述的一种晶圆用高温药液清洗设备进行清洗的工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S11：晶圆经由卡盘销固定后通过承载台做旋转运动，同时下加热板也转动一定角度后，使进液口与第一喷嘴上下相对应；

S12：第一喷嘴往上移动到进液口处，两个第三喷嘴分别将DHF和DIW喷到晶圆的上表面进行清洗；

S13：下加热板和第一喷嘴同步上升，使下加热板与晶圆靠近；下加热板加热升温，然后利用第一喷嘴将磷酸喷到晶圆的下表面，同时第三喷嘴将DIW喷到晶圆的上表面进行清洗；

S14：左加热板和右加热板相互靠近后加热升温，将晶圆的上表面覆盖住，然后第三喷嘴通过喷液口将磷酸喷射到晶圆的上表面进行清洗；

S15：左加热板、右加热板和第一喷嘴回到初始位置，同时加热板下降的同时转动一定位置，使进液口与第二个喷嘴上下相对应；

S16：第二个喷嘴上升到进液口处,依次将APM、DIW和氮气喷射到晶圆的下表面进行清洗和甩干；同时晶圆的上表面先由第三喷嘴喷出DIW冲洗，再用雾化的APM进行清洗；

S17：晶圆转动甩干，并通氮气吹干。