[发明专利]一种将曝光平面对准成像平面的方法

权利要求书

1.一种将曝光平面对准成像平面的方法，其特征在于：由于基板或放置基板的位移载台倾斜造成，曝光平面范围或所放置曝光基板的最大边缘处多设定点与原对准成像平面的距离误差，作为细部估算每一步进曝光点与原对准成像平面的距离误差方法，进而作为成像平面对准的补偿。

2.根据权利要求1所述的一种将曝光平面对准成像平面的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：用微纳精度的测距系统测量曝光平面范围或所放置曝光基板的最大边缘处m个设定点的距离，得到m个设定点与原对准成像平面的距离误差为Qm，其中m＝1,2,…,m(m为正整数)；

步骤2：通过将m个设定点(Xm,Ym)座标对应的距离误差Qm进行运算得到每一步进曝光点(Xn,Yn)对应位置的距离误差值Pn，将每一步进曝光点的距离误差值Pn加上原对准成像平面与光源的距离P，得到各个步进曝光点对应精微修正后的曝光对准距离P+Pn，其中n＝1,2,…,n(n为正整数)；

步骤3：在步进曝光流程中，将每一步进曝光点精微修正后的曝光对准距离P+Pn，输入步进光刻设备中，作为设备调整每一步进曝光点对准距离的依据。

3.根据权利要求2所述的一种将曝光平面对准成像平面的方法，其特征在于：所述用测量曝光平面范围的最大边缘处m个设定点的距离作为估算对准距离误差，则可以修正曝光平面载台倾斜所造成的误差；所述用所放置曝光基板的最大边缘处m个设定点的距离作为估算对准距离误差，则可以修正因曝光基板吸附曝光平面载台的吸力不均所造成的基板倾斜误差。

4.根据权利要求2所述的一种将曝光平面对准成像平面的方法，其特征在于：所述微纳精度的测距系统采用基于声学及光学的非接触式测距方式，如反射能量法、超声时间法、双象比较法、位置敏感器件测距法、光学探针法、光切法、干涉法、图像处理等，但不仅限于此。

5.根据权利要求2所述的一种将曝光平面对准成像平面的方法，其特征在于：在放置基板的载台平面上定义X轴与Y轴，以此确定多设定点的位置，并定义Z轴且原对准成像平面处的Z轴坐标为0，即可得到多组设定点的实际X、Y、Z坐标，以此运算每一步进曝光点X、Y位置对应的Z轴坐标值，即为距离误差值运算方法。

6.根据权利要求2所述的一种将曝光平面对准成像平面的方法，其特征在于：在系统对曝光基板进行初始第一个步进曝光点的光学精密聚焦之后，作为原对准成像平面，可通过估算精微修正的曝光对准距离来取代光学的精密聚焦方式，达到快速修正成像平面对准的目的。