[发明专利]显示装置有效
| 申请号： | 202011441697.8 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN112582453B | 公开（公告）日： | 2023-10-10 |
| 发明（设计）人： | 洪浚成;吴铸航;张哲元;刘志伟;郑贸熏 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H10K59/12 | 分类号： | H10K59/12;H10K59/122;H10K50/85;H10K50/86 |
| 代理公司： | 北京市立康律师事务所 11805 | 代理人： | 梁挥;孟超 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示装置 | ||
1.一种显示装置，其特征在于，包括：
一第一基板；
一像素结构，设置于该第一基板上，且具有一有源元件和电性连接至该有源元件的一像素电极；
一第二基板，设置于该第一基板的对向；以及
一抗反射结构，设置于该第二基板上，且位于该第一基板与该第二基板之间，其中该抗反射结构包括：
一第一绝缘层，设置于该第二基板上；以及
一金属层，设置于该第一绝缘层上，其中该第一绝缘层位于该第二基板与该金属层之间，该第一绝缘层具有一开口，该金属层具有一开口，且该第一绝缘层的该开口及该金属层的该开口重叠于该像素电极。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一绝缘层的该开口与该金属层的该开口实质上切齐。
3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一绝缘层的材料包括氧化钼或富含硅的氧化硅，且该金属层的材料包括钼。
4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该抗反射结构更包括：
一第二绝缘层，设置于该金属层上，其中该金属层位于该第一绝缘层与该第二绝缘层之间。
5.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，该第二绝缘层具有一开口，且该第二绝缘层的该开口重叠于该金属层的该开口。
6.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，该第二绝缘层的该开口与该金属层的该开口实质上切齐。
7.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，该第一绝缘层与该第二绝缘层之一者的材料包括氮化硅，该第一绝缘层与该第二绝缘层之另一者的材料包括富含硅的氧化硅，且该金属层的材料包括钼。
8.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，该第一绝缘层的材料包括富含硅的氧化硅，该金属层的材料包括钼，且该第二绝缘层的材料包括富含硅的氧化硅。
9.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该金属层的厚度大于该第一绝缘层的厚度。
10.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，更包括：
一保护层，设置于该抗反射结构上，且位于该抗反射结构与该第一基板之间，其中该保护层更设置于该第一绝缘层的该开口及该金属层的该开口中。
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