[发明专利]一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 202011438605.0 申请日: 2020-12-10
公开(公告)号: CN112582569B 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 宫奎;张志海;田维;钱颖 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 李娜
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的边缘区域以及围绕所述边缘区域的显示区域,所述边缘区域的显示基板包括:

衬底基板,以及设置在所述衬底基板一侧的平坦层;

设置在所述平坦层背离所述衬底基板一侧的隔离墙和有机功能层,所述有机功能层在所述隔离墙的侧面断开;所述有机功能层包括层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层;

其中,所述隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料;层叠设置在所述隔离墙和所述有机功能层背离所述衬底基板一侧的阴极层和封装层,所述阴极层靠近所述衬底基板设置,所述阴极层以及所述封装层在所述隔离墙的侧面断开;

通过特定波长的光线照射设置在所述平坦层背离所述衬底基板一侧的隔离柱,使所述隔离柱发生膨胀形变,在膨胀形变的过程中会对所述有机功能层、所述阴极层以及所述封装层施加一个向上的膨胀拉扯力,使所述有机功能层、所述阴极层以及所述封装层在膨胀后的隔离柱两侧发生断裂;再对发生膨胀形变后的隔离柱进行高温退火,使所述发生膨胀形变后的隔离柱发生交联反应,获得发生膨胀形变以及交联反应的光致形变材料,形成所述隔离墙。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述隔离墙凸出所述封装层的高度大于或等于0.5微米且小于或等于2微米。

3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述平坦层包括堤部和平坦部,在所述堤部和所述平坦部背离所述衬底基板的一侧均设置有所述隔离墙。

4.根据权利要求1至3任一项所述的显示基板,其特征在于,所述光致形变材料包括光敏液晶高弹体、具有光致应力释放的光敏材料和PLZT陶瓷材料中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述光致形变材料包括偶氮苯基聚合物,所述偶氮苯基聚合物的分子量大于或等于5000且小于或等于8000。

6.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至5任一项所述的显示基板。

7.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的边缘区域以及围绕所述边缘区域的显示区域,所述边缘区域的显示基板的制备方法包括:

提供衬底基板;

在所述衬底基板的一侧形成平坦层;

在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离柱和有机功能层,其中,所述隔离柱的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料;所述有机功能层包括层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层;

在所述有机功能层背离所述衬底基板的一侧依次形成阴极层和封装层;

通过特定波长的光线照射所述隔离柱,使所述隔离柱发生膨胀形变,在膨胀形变的过程中会对所述有机功能层、所述阴极层以及所述封装层施加一个向上的膨胀拉扯力,使所述有机功能层、所述阴极层以及所述封装层在膨胀后的隔离柱两侧发生断裂;再对发生膨胀形变后的隔离柱进行高温退火,使所述发生膨胀形变后的隔离柱发生交联反应,获得发生膨胀形变以及交联反应的光致形变材料,形成隔离墙。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离柱的步骤,包括:

在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧涂覆前驱体溶液薄膜;

对所述前驱体溶液薄膜进行高温固化处理,形成隔离膜层;

采用构图工艺,对所述隔离膜层进行处理,形成所述隔离柱;

其中,所述前驱体溶液包括所述光致形变材料。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述光致形变材料为偶氮苯基聚合物,所述前驱体溶液还包括:交联剂、预聚合物单体、固化剂、引发剂、添加剂和溶剂。

10.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述隔离柱的高度大于或等于3微米且小于或等于10微米。

11.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述隔离柱环绕所述开孔区域设置,沿所述隔离柱环绕所述开孔区域的方向,所述隔离柱的横截面在所述衬底基板上的正投影尺寸大于或等于10微米且小于或等于50微米。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011438605.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top