[发明专利]深度成像系统及其标定方法、深度成像方法、存储介质在审
| 申请号: | 202011433023.3 | 申请日: | 2020-12-09 | 
| 公开(公告)号: | CN112598719A | 公开(公告)日: | 2021-04-02 | 
| 发明(设计)人: | 张芊 | 申请(专利权)人: | 北京芯翌智能信息技术有限公司 | 
| 主分类号: | G06T7/521 | 分类号: | G06T7/521;G06T7/80 | 
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张振军 | 
| 地址: | 100190 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 深度 成像 系统 及其 标定 方法 存储 介质 | ||
1.一种深度成像系统,其特征在于,包括:
投影成像装置,包括光机镜头,用以对预设的投影图案进行投影,并获取待测物体对所述投影图案的反射图像;
点云计算模块,用以根据所述投影图案、所述反射图像以及所述光机镜头的参数计算得到点云数据;
对焦马达,用以响应于控制指令对所述光机镜头进行至少一次移动,每次移动后通过所述投影成像装置和所述点云计算模块确定相应的点云数据;点云融合模块,用以对多个点云数据进行融合,以得到所述待测物体的点云数据。
2.根据权利要求1所述的深度成像系统,其特征在于,所述投影成像装置还包括:
结构光控制器,用以生成所述投影图案,以及所述控制指令;
数字光处理模块,用以响应于所述控制指令对所述投影图案进行投影;
相机,用以拍摄所述待测物体对所述投影图案的反射图像。
3.根据权利要求1所述的深度成像系统,其特征在于,所述点云计算模块根据所述投影图案、所述反射图像以及所述光机镜头所处当前位置对应的标定参数计算得到所述点云数据。
4.根据权利要求1所述的深度成像系统,其特征在于,所述对焦马达每次对所述光机镜头移动预设距离。
5.根据权利要求1所述的深度成像系统,其特征在于,所述点云融合模块对所述多个点云数据进行加权平均,以得到所述待测物体的点云数据。
6.根据权利要求1所述的深度成像系统,其特征在于,所述点云计算模块利用视差算法计算所述点云数据。
7.一种基于权利要求1至6任一项所述深度成像系统的标定方法,其特征在于,包括:
确定基础工作距离;
至少对所述光机镜头进行初次标定,以得到对应的一组标定参数;
通过所述对焦马达对所述光机镜头进行至少一次移动,并至少对所述光机镜头进行至少一次标定,以得到对应的至少一组标定参数。
8.一种深度成像方法,其特征在于,包括:
至少利用光机镜头对预设的投影图案进行投影,并获取待测物体对所述投影图案的反射图像;
根据所述投影图案、所述反射图像以及所述光机镜头的参数计算得到点云数据;
响应于控制指令对所述光机镜头进行至少一次移动,并在每次移动后重新对所述投影图案进行投影、拍摄所述反射图像以及计算点云数据;
对多个点云数据进行融合,以得到所述待测物体的点云数据。
9.根据权利要求8所述的深度成像方法,其特征在于,所述对预设的投影图案进行投影,并获取待测物体对所述投影图案的反射图像包括:
生成投影图案,以及控制指令;
在光机镜头所处的当前位置,响应于所述控制指令对所述投影图案进行投影;
拍摄待测物体对所述投影图案的反射图像。
10.根据权利要求8所述的深度成像方法,其特征在于,所述在每次移动后重新对所述投影图案进行投影、拍摄所述反射图像以及计算点云数据包括:每次移动所述光机镜头后,重新对所述投影图案进行投影;
对重新投影后的投影图像拍摄得到新的反射图像;
利用所述投影图案、所述新的反射图像以及所述光机镜头移动后的参数计算得到点云数据。
11.根据权利要求8所述的深度成像方法,其特征在于,所述光机镜头的参数包括所述光机镜头在当前位置进行标定所确定的标定参数。
12.一种存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器运行时执行权利要求8至11中任一项所述深度成像方法的步骤,或者权利要求7所述的标定方法的步骤。
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