[发明专利]一种改善牙釉质脱矿的含氟抗菌隐形矫治器及其制备方法

权利要求书

1.一种改善牙釉质脱矿的含氟抗菌隐形矫治器，其特征在于，其制备方法包括以下步骤：

S1.将基材浸泡在含还原剂和溶菌酶的混合溶液中，得到表面具有相转变溶菌酶的基材，洗涤干燥；

S2.将表面具有相转变溶菌酶的基材浸泡于含氟化物的带负电生物大分子溶液中，洗涤干燥；

S3.将上述所得基材浸泡于溶菌酶溶液中，洗涤干燥后，再次浸泡于含氟化物的带负电生物大分子溶液中；

S4.重复步骤S3的操作3~7次，干燥后得含氟抗菌隐形矫治器；

其中，步骤S2和步骤S3所述带负电生物大分子溶液中，氟化物的浓度为0.5~2.0 mg/L；

步骤S2和步骤S3所述带负电生物大分子溶液中，氟化物为氟化钙或氟化钠；

步骤S2和步骤S3所述带负电生物大分子溶液中，带负电生物大分子为透明质酸；

步骤S2和步骤S3所述带负电生物大分子溶液中，带负电生物大分子溶液浓度为0.5~2mg/mL；

步骤S3中所述溶菌酶溶液的浓度为0.5~2 mg/mL；

步骤S1中所述混合溶液pH为6~8；

所述基材为热塑性聚氨酯。

2.根据权利要求1所述含氟抗菌隐形矫治器，其特征在于，步骤S2和步骤S3所述带负电生物大分子溶液中，氟化物的浓度为1.0~2.0 mg/L。

3.根据权利要求1所述含氟抗菌隐形矫治器，其特征在于，步骤S1中所述混合溶液中还原剂浓度为30~60 mmol/L。

4.根据权利要求1所述含氟抗菌隐形矫治器，其特征在于，步骤S1中所述混合溶液中溶菌酶浓度为2~20 mg/mL。

5.根据权利要求1所述含氟抗菌隐形矫治器，其特征在于，步骤S4重复步骤S3的操作3次。