[发明专利]质子注量率测量装置及系统有效
申请号: | 202011419740.0 | 申请日: | 2020-12-07 |
公开(公告)号: | CN112558138B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 张艳文;郭刚;刘建成;覃英参;殷倩;肖舒颜;杨新宇 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | G01T1/29 | 分类号: | G01T1/29;G01T7/00 |
代理公司: | 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 | 代理人: | 王鹏鑫 |
地址: | 102413 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 质子 注量率 测量 装置 系统 | ||
1.一种质子注量率测量装置,其特征在于,包括:
吸收结构,用于吸收入射的质子束流;
补偿结构,沿所述质子束流的入射方向设置于所述吸收结构之前,在测量质子束流注量率过程中为所述吸收结构提供二次电子发射补偿;
其中,所述吸收结构和所述补偿结构采用的材料均为石墨;
所述补偿结构包括补偿元件和准直元件,所述准直元件用于使得入射的质子束流具有准直特性;
所述装置还包括绝缘元件,设置于所述吸收结构和所述补偿结构之间;
所述准直元件、所述补偿元件、所述绝缘元件和所述吸收结构依次贴合设置。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述吸收结构为沿垂直于所述质子束流的入射方向设置的柱状结构。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述补偿元件为垂直于所述质子束流的入射方向设置的片状结构。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述准直元件包括:
准直孔,为沿所述质子束流的入射方向透穿于所述准直元件的贯穿孔。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,该装置还包括:
筒状结构,为单侧开口的壳体结构,用于为所述装置提供支撑。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述吸收结构设置于所述筒状结构的底部,所述吸收结构的外壁面与所述筒状结构的内壁面贴合设置。
7.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述筒状结构包括:
连接孔,设置于所述筒状结构的底部,用于作为所述吸收结构的引出孔。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,该装置还包括:
引出电极,设置于所述连接孔上,并与所述吸收结构接触连接,用于导出所述吸收结构的测量电信号。
9.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述筒状结构的材料为聚四氟乙烯。
10.一种质子注量率测量系统,其特征在于,包括:
如权利要求8所述的装置;
静电计,与所述装置的引出电极连接,用于测量并显示所述引出电极导出的测量电信号。
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