[发明专利]一种基于微流控技术的质谱成像高空间分辨率表面采样头及采样方法

权利要求书

1.一种基于微流控技术的质谱成像高空间分辨率表面采样头，其特征在于：

包括采样头本体，

采样头本体的底部设有采样空腔，采样头本体内部设有第一流道和第二流道，所述第一流道用于注入萃取溶剂，所述第二流道用于样本缓存与喷出；

所述第一流道和第二流道均包括第一接口和第二接口，第一流道和第二流道的第一接口分别与采样空腔连通，第一流道和第二流道的第二接口分别与采样头本体外部连通；

所述采样头本体的侧面设有两个圆孔，第一流道和第二流道的第二接口分别与两个圆孔连通；

所述第一流道靠近圆孔处的横截面积大于其靠近采样空腔处的横截面积；

所述第二流道靠近圆孔处的横截面积大于其靠近采样空腔处的横截面积；

第一流道的第二接口尺寸小于第二流道的第二接口的尺寸；

所述第一流道包括第一垂直段、过渡段和第二垂直段，第一垂直段、过渡段和第二垂直段依次连通；所述第一垂直段直径为1mm，过渡段为倾斜设置，第二垂直段连通采样空腔处的尺寸为：长150μm，宽200μm；

所述第二流道包括第一垂直段、过渡段和第二垂直段，第一垂直段、过渡段和第二垂直段依次连通；

所述第一垂直段直径为1mm，过渡段为倾斜设置，第二垂直段连通采样空腔处的尺寸为：长为150μm、宽为200μm；

采样空腔为一底面开口的空腔，其底面的截面为一长度为500μm宽度为200μm的长方形，深度为200μm，与被采样表面接触面积为0.1mm²，采样空腔总容积为0.02mm³，即20nL。

2.根据权利要求1所述的一种基于微流控技术的质谱成像高空间分辨率表面采样头，其特征在于：

采样头本体采用聚二甲基硅氧烷制成，第一流道和第二流道通过软光刻及复制成型技术加工制造。

3.一种采样系统，其特殊之处在于，包括如权利要求1-2任一所述的基于微流控技术的质谱成像高空间分辨率表面采样头。

4.一种采样方法，应用权利要求1-2任一所述的基于微流控技术的质谱成像高空间分辨率表面采样头，其特征在于：

将采样头底面平行接触被采样表面，完全接触后保持不动；

将萃取溶剂由第一流道注入采样空腔，使萃取溶剂与被采样表面接触，通过流动产生清洗作用实现萃取，并进入第二流道；

停止注入萃取剂，抬起采样头并移动到样本分配位置；

在第二流道中通入脉冲气体，将样本由流道中喷出到指定分配位置。