[发明专利]一种减小暗电流和电学串扰的图像传感器像素结构在审

专利信息
申请号: 202011413537.2 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN112530986A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 陈多金;旷章曲;王菁;张帅;孙伟;刘志碧;陈杰 申请(专利权)人: 上海韦尔半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;赵镇勇
地址: 201210 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 减小 电流 电学 图像传感器 像素 结构
【权利要求书】:

1.一种减小暗电流和电学串扰的图像传感器像素结构,其特征在于,包括置于半导体基体中的多个感光元件,相邻的感光元件之间设有浅槽隔离(202),所述浅槽隔离(202)区域设有复合注入层;

所述半导体基体的正面设有介质层(206),所述介质层(206)中设有金属互连线,并在对应所述复合注入层的部位设有接触孔(207)。

2.根据权利要求1所述的减小暗电流和电学串扰的图像传感器像素结构,其特征在于,所述复合注入层包含高浓度低能量N型掺杂(203)、低浓度高能量N型多步掺杂(204)以及低浓度中能量P型多步掺杂(205),所述复合注入层形成有效的浓度梯度并通过所述接触孔(207)连接到外部偏压或电源上。

3.根据权利要求2所述的减小暗电流和电学串扰的图像传感器像素结构,其特征在于:

所述高浓度低能量N型掺杂(203)包括:As或P/10~50KeV/1E15~5E15;

所述低浓度高能量N型多步掺杂(204)包括:As或P/100~2000KeV/3E11~5E12;

所述低浓度中能量P型多步掺杂(205)包括:B/100~1000KeV/3E11~5E12。

4.根据权利要求3所述的减小暗电流和电学串扰的图像传感器像素结构,其特征在于,所述半导体基体为硅基底(201),所述感光元件为光电二极管(208)。

5.根据权利要求1至4任一项所述的减小暗电流和电学串扰的图像传感器像素结构,其特征在于,所述复合注入层通过外部偏压形成电场,并在此电场的驱动下,不仅消除了来自衬底串扰的电子,而且也吸收了在浅槽隔离与硅基界面所产生的暗电流。

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