[发明专利]多个光学系统的扫描场对准

权利要求书

1.一种用于增材制造过程的校准束扫描场的方法，其特征在于，其中，使用两个或更多个辐射能量束来选择性地熔融材料以形成工件，所述方法包括：

使用单独的束转向机构引导所述两个或更多个辐射能量束，以在基板上创建校准构建图案，所述校准构建图案包括由所述两个或更多个辐射能量束中的每一个创建的至少一个测量伪影；

测量所述测量伪影的位置；

将所述测量伪影的测量位置与标准进行比较，以识别对准误差；和

调整至少一个所述束转向机构，以补偿所述对准误差；其中，所述测量伪影被布置在多个测量伪影组中，并且所述测量伪影组在所述校准构建图案内具有可变间距。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，每个束转向机构与扫描场相关联，并且所述束转向机构被定位成使得所述扫描场彼此部分重叠。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，调整的步骤包括最小化每个束转向设备的平均对准误差。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，调整的步骤包括最小化所述校准构建图案的预定位置中的所述对准误差。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，每个束转向机构包括至少一个振镜，所述振镜能够操作为响应于输入信号来使辐射能量束转向。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，调整的步骤包括改变用于将驱动信号传输至所述束转向机构的软件传递函数的至少一个参数。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中：

每个束转向机构与扫描场相关联，并且

调整的步骤包括提供每个束转向机构的所述扫描场的不同部分处的不同调整值。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，所述测量伪影被布置在多个测量伪影组中，每个测量伪影组包括控制点，并且包括由每个所述辐射能量束形成的至少一个测量伪影。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，所述校准构建图案包括由边界围绕的中心区域，所述测量伪影被布置在多个测量伪影组中，并且所述测量伪影组在所述中心区域内具有相对较大的间距，并且在所述边界附近具有相对较小的间距。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，所述校准构建图案具有由边界围绕的中心区域，所述测量伪影被布置在多个测量伪影组中，并且所述测量伪影组在所述中心区域内的预选区域中具有相对较小的间距。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，测量的步骤包括确定位于每个所述测量伪影上的至少一个点的位置。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，所述材料是容纳在构建室中的粉末，并且所述两个或更多个能量束用于以逐层过程选择性地熔融所述构建室中的所述粉末，以形成所述工件。

13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：使用校准的所述增材制造过程来构建一个或多个工件，每个工件包括两层或更多层。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，进一步包括：在为一个工件构建预定数量的层之后，重复以下步骤：创建校准构建图案，测量所述测量伪影的位置，将所述测量伪影的测量位置与标准进行比较，以及调整所述束转向机构中的至少一个。

15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，进一步包括：在构建预定数量的工件之后，重复以下步骤：创建校准构建图案；测量所述测量伪影的位置；将所述测量伪影的测量位置与标准进行比较；以及调整所述束转向机构中的至少一个。