[发明专利]一种精密铸造件抛光装置及其抛光方法

权利要求书

1.一种精密铸造件抛光装置，包括主设备平台(1)，其特征在于，所述主设备平台(1)上设有抛光机构(2)，抛光机构(2)包括抛光机底板(21)，抛光机底板(21)上设有阵列分布的抛光机架(211)，抛光机架(211)上设有多个丝杆机构，主设备平台(1)设有抛光夹具盘(3)，抛光夹具盘(3)一侧设有上料机构(4)，抛光夹具盘(3)另一侧设有下料机构(6)，上料机构(4)一侧设有进料架(5)。

2.根据权利要求1所述的一种精密铸造件抛光装置,其特征在于，所述抛光机架(211)一侧设有防干涉开槽(212)，抛光机架(211)上设有第一丝杆平台(213)，第一丝杆平台(213)两端均设有第一挡板(214)，第一丝杆平台(213)上设有阵列分布的第一滑轨(215)，第一滑轨(215)之间设有阵列分布的第一轴承座(22)，第一轴承座(22)内共同设有第一丝杆(221)，第一丝杆(221)上设有第一丝杆块(222)，第一丝杆(221)一端设有第一皮带盘(223)，第一皮带盘(223)上设有第一皮带(224)，第一丝杆平台(213)下方设有驱动第一皮带盘(223)的第一伺服电机(225)，第一丝杆块(222)上设有第一滑动板(23)，滑动板(2)上设有第二丝杆平台(24)，第二丝杆平台(24)一侧设有阵列分布的L型支撑块(241)，第二丝杆平台(24)另一侧设有与第一丝杆平台(213)上同样的丝杆机构，第二丝杆平台(24)上的丝杆机构的丝杆块上设有第二滑动板(25)，第二滑动板(25)上设有第三丝杆平台(251)，第三丝杆平台(251)上设有与第一丝杆平台(213)上同样的丝杆机构，第三丝杆平台(251)上的丝杆机构的丝杆块上设有第三滑动板(252)，第二丝杆平台(24)一侧还设有第二伺服电机(253)驱动第二丝杆平台(24)上的丝杆机构，第三滑动板(252)上设有第二挡板(26)，第二挡板(26)上设有阵列分布的开槽(261)，第二挡板(26)固定在第三丝杆平台(251)顶端设有的设备顶板(27)下端，设备顶板(27)下端还设有第三伺服电机(254)，第三伺服电机(254)上端设有第二皮带盘(255)，第三滑动板(252)上设有打磨杆固定板(256)，打磨杆固定板(256)上设有第二轴承座(257)，第二皮带盘(255)上设有第二皮带(258)带动第三丝杆平台(251)上的丝杆机构，设备顶板(27)上设有阵列分布的伺服电机平台支撑板(271)，伺服电机平台支撑板(271)上设有伺服电机平台(272)，伺服电机平台(272)上设有第四伺服电机(273)，第四伺服电机(273)带动转头(274)转动，设备顶板(27)上还设有打磨杆安装座(276)，转头(274)上设有第三皮带(275)。

3.根据权利要求1所述的一种精密铸造件抛光装置,其特征在于，所述抛光机构(2)还包括打磨杆(29)，打磨杆(29)安装在第二轴承座(257)与打磨杆安装座(276)内，打磨杆(29)顶端还设有第三皮带盘(291)，第三皮带(275)带动打磨杆(29)转动，打磨杆(29)上设有高度调整开槽(292)与固定孔(2921)，打磨杆(29)内设有延长杆(293)，延长杆(293)上设有安装在高度调整开槽(292)内的导向翼(2931)，延长杆(293)上设有轴承(294)，轴承(294)安装在第二轴承座(257)内，延长杆(293)下端设有打磨轮(295)和打磨块(296)。