[发明专利]红外增强型硅基光电探测器在审

专利信息
申请号: 202011395096.8 申请日: 2020-12-03
公开(公告)号: CN112582495A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 陈全胜;张明;王涛;贺琪 申请(专利权)人: 无锡中微晶园电子有限公司
主分类号: H01L31/101 分类号: H01L31/101;H01L31/0216;H01L31/0232;H01L31/18
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 红外 增强 型硅基 光电 探测器
【权利要求书】:

1.一种红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述红外增强型硅基光电探测器包括:正面减反射膜、pn结、正面金属电极、背面全反射结构、背面反射层和背面金属电极。

2.根据权利要求1所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述的背面全反射结构包含有第一倾斜面和第二倾斜面,所述第一倾斜面和所述第二倾斜面为平面、上凸和/或下凹的表面。

3.根据权利要求1所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述第一倾斜面与水平面的夹角为9°~40°,所述第二倾斜面与水平面的夹角为45°~90°。

4.根据权利要求1所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述第一倾斜面与水平面的夹角为15°~35°,所述第二倾斜面与水平面的夹角为65°~85°。

5.根据权利要求1所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述第一倾斜面与水平面的夹角为9°~15°,所述第二倾斜面与水平面的夹角为45°~90°。

6.根据权利要求1所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述背面反射层和背面金属电极为同一层。

7.根据权利要求1所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述背面反射层为氧化硅、氮化硅、氧化钛、氧化铝和氧化铪中的一种或多种的叠层结构。

8.根据权利要求7所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述背面反射层为两种不同介质层进行堆叠组成的布拉格光栅结构。

9.根据权利要求8所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述布拉格光栅中两种介质材料叠层的层数大于等于5层。

10.根据权利要求1至9任一所述的红外增强型硅基光电探测器,其特征在于,所述背面反射层和背面全反射结构结合被用于包括雪崩光电二极管、光电二极管、光电三极管或者太阳能电池的光电器件中。

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