[发明专利]气体传感器及其气敏膜的制造方法在审

专利信息
申请号: 202011392870.X 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112683961A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 陈学志;郭鹏飞;陆原;李立伟 申请(专利权)人: 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/04
代理公司: 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 代理人: 刘杰
地址: 100176 北京市大兴区北京经济技术开发*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 气体 传感器 及其 气敏膜 制造 方法
【说明书】:

发明公开一种气体传感器及其气敏膜的制造方法,所述气体传感器包括:基底;以及设置于所述基底上的多个感测单元,每个感测单元包括:微加热器;设置于所述微加热器表面的活化区;以及形成于所述活化区的气敏膜,所述气敏膜包括多个柱状结构,所述柱状结构凸设于所述活化区。本发明采用反应溅射生成气敏膜,所制得的气敏膜厚度均匀,厚度可控,具有较大的表面积,且可实现整片晶圆级的沉积模式,适合大规模量产。

技术领域

本发明涉及传感器技术领域,具体涉及一种气体传感器及其气敏膜的制造方法。

背景技术

对于气敏膜的沉积,现今多采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法,用金属有机盐或无机金属盐溶于水或有机溶剂中搅拌,掺杂贵金属增感剂、氧化物调阻剂以及有机物粘合剂,采用氨水或冰醋酸调整PH值,并形成有一定粘度的溶胶。使用匀胶机通过EHD打印或提拉法在微加热器的活化区形成胶层或胶点,然后去退火或烘烤,蒸发掉易挥发物质,通过控制退火或烘烤温度,而得到微观结构有序的薄膜。

然而,采用溶胶-凝胶法制备的气敏膜的厚度均匀性差、厚度较厚、且制备过程不适合大规模量产。

发明内容

本发明的目的是提供一种气体传感器及其气敏膜制造方法,采用反应溅射生成气敏膜,所制得的气敏膜厚度均匀,厚度可控,且可实现整片晶圆级的沉积模式,适合大规模量产。

为实现上述目的,本发明实施例提供了以下方案:

第一方面,本发明实施例提供一种气体传感器,所述气体传感器包括:

基底;以及

设置于所述基底上的多个感测单元,每个感测单元包括:

微加热器;

设置于所述微加热器表面的活化区;以及

形成于所述活化区的气敏膜,所述气敏膜包括多个柱状结构,所述柱状结构凸设于所述活化区。

在一种可能的实施例中,所述柱状结构由金属氧化物、复合金属氧化物及混合金属氧化物中一项或者多项的组合制成。

第二方面,本发明实施例提供一种气敏膜的制造方法,所述方法包括:

将靶材装配于反应溅射设备的靶台;

将掩模版设置于基底,一并放置于所述反应溅射设备的托盘;

将所述反应溅射设备的溅射反应腔室抽至预设真空条件;

向所述溅射反应腔室通入反应气体及惰性气体,所述反应气体为氧气,所述惰性气体为氩气;

在所述靶材与所述基底之间施加预设电压,使得所述靶材发生溅射,产生金属粒子流,同时,调整所述金属粒子流相对于所述基底的入射角;以及

所述金属粒子流与所述反应气体发生氧化反应,生成金属氧化物,所述金属氧化物透过所述掩模版的通孔沉积至所述基底,形成具有柱状结构的气敏膜。

在一种可能的实施例中,在将掩模版设置于基底,一并放置于所述反应溅射设备的托盘之前,所述方法还包括,

对所述基底进行烘烤。

在一种可能的实施例中,所述方法还包括:

通过调整所述基底的温度控制所述柱状结构的形貌。

在一种可能的实施例中,所述通孔正对所述基底上设置的微加热器。

在一种可能的实施例中,所述掩模版由铝或者氮化钛制成,所述通孔正对所述基底上设置的微加热器的活化区。

在一种可能的实施例中,所述气敏膜的厚度为1um。

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