[发明专利]一种指纹识别微透镜成像组件的制备方法

权利要求书

1.一种指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

S1、提供微透镜阵列，在所述微透镜阵列表面涂覆正性光刻胶，所述正性光刻胶厚度大于所述微透镜阵列高度；

S2、去除所述微透镜周围的正性光刻胶并保留所述微透镜上表面的正性光刻胶；

S3、在所述正性光刻胶表面和所述微透镜的间隙处喷涂一层黑色光阻材料；

S4、对所述黑色光阻材料紫外泛曝光；

S5、将所述正性光刻胶及其表面的黑色光阻材料剥离，得到指纹识别微透镜成像组件。

2.如权利要求1所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，所述黑色光阻材料的厚度为100nm-5um。

3.如权利要求1所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，制备所述微透镜阵列的具体方法为：提供模具和衬底，所述模具具有凹部阵列和至少一个用以形成对位标记的凹槽，在所述衬底上涂覆胶水，并依据所述模具的凹部和凹槽，在所述胶水表面压印并通过曝光固化以形成微透镜阵列和对位标记。

4.如权利要求3所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，步骤S2的具体方法为：利用激光直写光刻机标记识别功能，对所述对位标记进行光学识别并记录位置坐标，以此对所述正性光刻胶进行对准曝光并显影，实现去除所述微透镜周围的正性光刻胶并保留所述微透镜上表面的正性光刻胶。

5.如权利要求3所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，所述衬底为玻璃硬衬底、聚酯薄膜软衬底中的任一个，所述衬底的厚度为25um-500um。

6.如权利要求3所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，所述模具的制备方法为：

(1)提供基片，在所述基片表面涂覆光刻胶；

(2)对所述光刻胶进行无掩模紫外激光直写曝光，显影，得到柱体光刻胶阵列和至少一个柱体对位标记；

(3)加热所述柱体光刻胶阵列和至少一个柱体对位标记，得到凸部阵列和至少一个对位标记；

(4)依据所述凸部阵列和至少一个对位标记，通过金属生长得到模具，所述模具具有凹部阵列和至少一个用以形成对位标记的凹槽。

7.如权利要求6所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，在所述基片表面涂覆所述光刻胶之前，对所述基片进行清洗和表面能处理，以增加所述基片表面和所述光刻胶的结合力。

8.如权利要求6所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，所述凸部阵列的表面粗糙度为10nm-50nm。

9.如权利要求6所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，所述涂覆方式为旋涂、喷涂、刮涂中的任一种。

10.如权利要求6所述的指纹识别微透镜成像组件的制备方法，其特征在于，对所述柱体光刻胶阵列和至少一个对位标记进行加热的温度为90℃-180℃，加热时间1min-60min。