[发明专利]一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置在审

专利信息
申请号: 202011376991.5 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN112497059A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 吴胜伟 申请(专利权)人: 东台苏友信息技术服务有限公司
主分类号: B24B41/04 分类号: B24B41/04;B24B55/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 224200 江苏省盐*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 机械 手表 表盘 抛光 打磨 装置
【权利要求书】:

1.一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置,包括活动轴(1),其特征在于:所述活动轴(1)的内壁固定连接有磁环一(3),所述活动轴(1)的外侧活动连接有固定轴(2),所述固定轴(2)的内壁固定连接有磁环二(4),所述固定轴(2)的内壁开设有限位槽(5),所述活动轴(1)的内壁固定连接有电磁铁(9),所述活动轴(1)的内壁且靠近电磁铁(9)的外侧固定连接有弹簧一(6),所述弹簧一(6)的外侧固定连接有限位杆(7),所述限位杆(7)的内壁固定连接有磁块(8);

所述活动轴(1)的内壁开设有滑槽(12),所述滑槽(12)的内壁固定连接有弹簧二(17),所述弹簧二(17)的外侧固定连接有挤压珠(10),所述活动轴(1)的内壁且靠近滑槽(12)的外侧固定连接有气囊(11),所述活动轴(1)的内壁且靠近气囊(11)的外侧开设有凹槽(13),所述凹槽(13)的内壁活动连接有滑块(14),所述滑块(14)的内壁弹性连接有电触点(15),所述活动轴(1)的内壁且靠近凹槽(13)的内侧固定连接有电触片(16)。

2.根据权利要求1所述的一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置,其特征在于:所述磁环一(3)与磁环二(4)的结构均为圆环体结构,所述磁环一(3)与磁环二(4)的相对面的磁性相同。

3.根据权利要求1所述的一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置,其特征在于:所述磁块(8)与电磁铁(9)的相对面的磁性相同,所述限位杆(7)的尺寸与限位槽(5)的尺寸相适应。

4.根据权利要求1所述的一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置,其特征在于:所述挤压珠(10)的结构为球体结构,所述挤压珠(10)的数量为两个,所述挤压珠(10)的材质为不锈钢材质。

5.根据权利要求1所述的一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置,其特征在于:所述气囊(11)的材质为橡胶材质,所述气囊(11)的数量与挤压珠(10)的数量相同。

6.根据权利要求1所述的一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置,其特征在于:所述滑块(14)的材质为橡胶材质,所述滑块(14)与滑槽(12)的内壁紧密贴合。

7.根据权利要求1所述的一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置,其特征在于:所述电触点(15)的结构为球体结构,所述电触片(16)的结构为环体结构,所述电触点(15)与电触片(16)的数量相同,电触片(16)与电磁铁(9)电性连接。

8.根据权利要求1所述的一种用于机械手表表盘抛光的打磨装置,其特征在于:所述弹簧二(17)与弹簧一(6)的材质相同,所述弹簧一(6)的弹性系数大于弹簧二(17)的弹性系数。

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