[发明专利]一种动态可调节真空打火进气装置及其调节方法在审
| 申请号: | 202011346427.9 | 申请日: | 2020-11-25 |
| 公开(公告)号: | CN114113922A | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
| 发明(设计)人: | 成成;高学林;张帆;谈小虎;贾子朝 | 申请(专利权)人: | 核工业理化工程研究院 |
| 主分类号: | G01R31/12 | 分类号: | G01R31/12 |
| 代理公司: | 天津创智睿诚知识产权代理有限公司 12251 | 代理人: | 李薇;田阳 |
| 地址: | 300000 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 动态 调节 真空 打火 装置 及其 方法 | ||
本发明公开了一种动态可调节真空打火进气装置及其调节方法,包括用于与真空罐体密封固定连接的罐体转接法兰、一端穿套于所述罐体转接法兰内且可与所述罐体转接法兰之间形成密封连接的螺杆座、通过螺纹连接于所述螺杆座内的螺杆、以及调节螺杆位置的磁铁驱动组件,其中:所述螺杆内部中空,所述螺杆的一端伸入真空罐体内形成气体出口,另一端插入所述螺杆座内并与螺杆座的内螺纹形成螺纹连接,所述螺杆座的端部嵌有滑动密封圈以密封所述螺杆,所述螺杆座外端形成有进气通路,所述进气通路与所述螺杆内部中空的通道相连通。本发明可在工作过程中精密调节出气点在真空罐体中的位置,提高工作效率。
技术领域
本发明涉及真空打火技术领域,特别是涉及一种动态可调节真空打火进气装置及其调节方法。
背景技术
传统的真空进气装置中,由于只关心进气量与真空度的关系,因此并没有针对真空下高压打火放电而设计的进气装置。由于高压放电的条件需要有一定的介质作为载体(比如气体分子),那么在高真空度下高电压就很难与附近的金属在空间导通放电(打火),但是在某些特定场合和使用条件下,必须要求真空下高压打火放电,因此需要通入微量气体使真空度在局部被破坏,形成高压放电所需要的气体载体介质。
在试验中,打火的位置和进气点必须每一次都手动调节,这就需要一个过程,实验→结果→曝真空。→打开真空罐体调整曝空点→调整最近金属位置→关闭真空罐体→抽真空→实验。这个过程由于抽真空的速度需要20分钟,单次调节时间就需要半小时以上,浪费人力物力。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术中存在的真空装置中进气位置不便调节的问题,而提供一种动态可调节真空打火进气装置。
本发明的另一个目的是提供所述动态可调节真空打火进气装置的调节方法。
为实现本发明的目的所采用的技术方案是:
一种动态可调节真空打火进气装置,包括用于与真空罐体密封固定连接的罐体转接法兰、一端穿套于所述罐体转接法兰内且与所述罐体转接法兰密封连接的螺杆座、通过螺纹连接于所述螺杆座内的螺杆、以及调节螺杆位置的磁铁驱动组件,所述螺杆座通过固定件与罐体转接法兰固定连接,其中:
所述螺杆内部中空,所述螺杆的一端伸入真空罐体内形成气体出口,另一端插入所述螺杆座内并与螺杆座的内螺纹形成螺纹连接,所述螺杆座的端部嵌有滑动密封圈以密封所述螺杆,所述螺杆座外端形成有进气通路,所述进气通路与所述螺杆内部中空的通道相连通;
所述磁铁驱动组件包括固定于所述螺杆上的第一磁铁块和吸附于所述罐体转接法兰外的第二磁铁块,所述第一磁铁块和所述第二磁铁块内外相对设置以形成随动。
在上述技术方案中,所述螺杆的气体出口为形成于所述螺杆端部的狭孔。
在上述技术方案中,所述螺杆的侧壁上靠近所述气体出口的位置设有工具接触面。
在上述技术方案中,所述螺杆座的外凸缘上嵌有静密封圈以压紧所述罐体转接法兰的外凸缘形成密封。
在上述技术方案中,第一磁铁块用金属粘接剂固定于螺杆边缘一侧,第二磁铁块放置于罐体转接法兰外侧。
在上述技术方案中,所述罐体转接法兰、螺杆座和螺杆三者同轴心设置。
在上述技术方案中,所述螺杆座内设有嵌入槽,所述静密封圈装配于所述嵌入槽内。
在上述技术方案中,所述螺杆座内的中空通道为阶梯通道,所述内螺纹形成于所述阶梯通道的最小直径段内。
在上述技术方案中,所述螺杆座的端部为进气管段连接端用于连接外接管路。
在上述技术方案中,所述固定件为卡箍,所述螺杆座与所述罐体转接法兰通过所述卡箍固定连接。
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