[发明专利]一种静电卡盘、处理腔室及半导体处理设备

权利要求书

1.一种静电卡盘，其特征在于，用于固定晶圆，所述静电卡盘包括：

静电卡盘本体，所述静电卡盘本体具有容纳腔；

静电吸附部，所述静电吸附部位于所述静电卡盘本体靠近所述晶圆的表面上，用于固定所述晶圆；

冷却激光器，所述冷却激光器设置在所述容纳腔内，用于向所述静电吸附部发射冷却激光，以冷却固定在所述静电吸附部上的所述晶圆。

2.根据权利要求1所述的静电卡盘，其特征在于，所述冷却激光器为紫外线冷却激光器。

3.根据权利要求1所述的静电卡盘，其特征在于，所述静电吸附部的材质为激光可穿透的材质。

4.根据权利要求1～3任一项所述的静电卡盘，其特征在于，所述冷却激光器的数量为一个或多个；

当所述冷却激光器的数量为一个时，所述冷却激光器设置在所述容纳腔的底面中心处；

当所述冷却激光器的数量为多个时，多个所述冷却激光器均匀设置在所述容纳腔的底面上。

5.根据权利要求4所述的静电卡盘，其特征在于，当所述冷却激光器的数量为多个时，相邻两个所述冷却激光器之间具有间隔，多个所述冷却激光器的顶部平齐。

6.根据权利要求4所述的静电卡盘，其特征在于，当所述冷却激光器的数量为多个时，多个所述冷却激光器包括位于所述容纳腔的底面中心的第一冷却激光器、以及以所述容纳腔的底面中心为圆心呈同心圆分布的至少两组冷却激光器，每组所述冷却激光器包括至少两个第二冷却激光器。

7.根据权利要求6所述的静电卡盘，其特征在于，同一组的相邻两个所述第二冷却激光器之间所具有的间隔相等。

8.根据权利要求6所述的静电卡盘，其特征在于，沿着所述容纳腔的底面的中心至边缘的方向，每组所述冷却激光器所包括的第二冷却激光器的数量逐渐增多。

9.一种处理腔室，其特征在于，包括权利要求1～8任一项所述的静电卡盘。

10.一种半导体处理设备，其特征在于，包括如权利要求9所述的处理腔室。