[发明专利]一种OLED真空镀膜烘干系统

说明书

本发明公开一种OLED真空镀膜烘干系统，包括方箱体，所述方箱体的前端表面中间位置靠近上侧安装有手动转头，所述方箱体的外表面靠近左侧设置有电流蒸镀机，所述方箱体的右端表面中间位置靠近下侧固设有前置体壳，所述电流蒸镀机的上端表面中间位置设置有对接通管，所述电流蒸镀机的上部且位于对接通管的上端表面设置有真空椭箱体；本发明能够实现对基片主体同时且均匀的镀膜，避免外界空气中的带电粒子以及其他因素影响基片主体的镀膜过程，避免基片主体表面沾染有机杂质和尘粒，确保OLED镀膜成功率不受外界因素影响，减小镀膜材料的损耗，可根据基片ITO的不同分布，进行选择性调控镀膜，使得系统可对不同OLED选择性调节镀膜功能。

技术领域

本发明属于真空镀膜技术领域，具体的是一种OLED真空镀膜烘干系统。

背景技术

OLED称为有机电激光显示、有机发光半导体；OLED属于一种电流型的有机发光器件，是通过载流子的注入和复合而致发光的现象，发光强度与注入的电流成正比；OLED在电场的作用下，阳极产生的空穴和阴极产生的电子就会发生移动，分别向空穴传输层和电子传输层注入迁移到发光层；当二者在发光层相遇时，产生能量激子，从而激发发光分子最终产生可见光，而对OLED的真空镀膜中，通过电流加热电子束，轰击加热和激光加热等方法,使被蒸材料蒸发成原子或分子,随即以较大自由程作直线运动,碰撞基片表面而凝结,有效形成薄膜,这个过程就叫做真空蒸镀；在真空蒸镀过程中要求镀膜室里残余分子自由程大于蒸发源到基片距离,来保证镀膜纯净；OLED蒸镀系统功能在于主要系统功能可分为等离子处理、软件控制、有机蒸镀、金属蒸镀和材料蒸镀控制等离子处理；

市场上的烘干系统大都不具备对基片主体同时且均匀镀膜的功能，无法消除带电粒子对镀膜过程的影响，基片主体表面易沾染有机杂质和尘粒，系统无法对不同OLED进行选择性调节镀膜，为此，我们提出一种OLED真空镀膜烘干系统。

发明内容

本发明的目的在于提供一种OLED真空镀膜烘干系统，以解决上述背景技术中提出的市场上的烘干系统大都不具备对基片主体同时且均匀镀膜的功能，无法消除带电粒子对镀膜过程的影响，基片主体表面易沾染有机杂质和尘粒，系统无法对不同OLED进行选择性调节镀膜的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种OLED真空镀膜烘干系统，包括方箱体，所述方箱体的前端表面中间位置靠近上侧安装有手动转头，所述方箱体的外表面靠近左侧设置有电流蒸镀机，所述方箱体的右端表面中间位置靠近下侧固设有前置体壳，所述电流蒸镀机的上端表面中间位置设置有对接通管，所述电流蒸镀机的上部且位于对接通管的上端表面设置有真空椭箱体，所述真空椭箱体的外表面靠近上部中间位置设置有真空机。

作为本发明进一步的方案：所述方箱体的上端表面中间位置设置有保护套筒，所述保护套筒的外表面靠近右侧上部设置有外接弯管，所述外接弯管的下端表面连接有微热干燥机，所述微热干燥机的下部设置有玻璃护罩，所述真空椭箱体的外表面靠近右侧中间位置设置有工艺腔管，所述电流蒸镀机通过对接通管与真空椭箱体连通安装，真空椭箱体与真空机串通设置，外接弯管贯穿保护套筒与方箱体连通设置。

作为本发明进一步的方案：所述工艺腔管的右端表面且位于方箱体的内部连接有内置分流机构，所述微热干燥机的下端表面且位于玻璃护罩的内侧设置有镀膜上斗，所述镀膜上斗的下端表面靠近边缘位置均匀布设有两组侧分爪，所述镀膜上斗的下部且位于前置体壳的内侧中间位置设置有镀膜斗结构，所述镀膜斗结构的下部连接有内接弯管，所述内置分流机构的外表面靠近左侧上部设置有闭气阀，所述内置分流机构的外表面靠近前侧中间位置设置有微型马达，所述镀膜上斗的上端表面中间位置设置有喷射储罐一，内置分流机构通过外接弯管和微热干燥机配合与镀膜上斗连通设置，真空椭箱体通过工艺腔管与内置分流机构连通设置，镀膜斗结构通过前置体壳与镀膜上斗配合设置，其中侧分爪的端部开设有OLED板槽，镀膜上斗和镀膜斗结构共同构成活动夹爪结构，玻璃护罩通过喷射储罐一和镀膜斗结构配合与活动夹爪结构紧密安装，且镀膜上斗通过微热干燥机与外接弯管活动安装。