[发明专利]抑制电磁干扰及漏波的结构、射频电源及等离子刻蚀设备在审
| 申请号: | 202011332509.8 | 申请日: | 2020-11-24 |
| 公开(公告)号: | CN112151351A | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
| 发明(设计)人: | 陈浩;胡琅;姚龙;马聪伟 | 申请(专利权)人: | 季华实验室 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司: | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人: | 陈志超;唐敏珊 |
| 地址: | 528200 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 抑制 电磁 干扰 结构 射频 电源 等离子 刻蚀 设备 | ||
1.一种抑制电磁干扰及漏波的结构,其特征在于,包括射频电源壳体以及设置在射频电源壳体内壁上的多个具有一定深度的凹腔,射频电源的电磁干扰入射到凹腔内,经过凹腔的多重反射及散射实现衰减。
2.根据权利要求1所述的抑制电磁干扰及漏波的结构,其特征在于,所述多个凹腔呈阵列排列分布。
3.根据权利要求1所述的抑制电磁干扰及漏波的结构,其特征在于,左右两个相邻凹腔之间的间距与射频电源的工作频率正相关,上下两个相邻凹腔之间的间距与射频电源的工作频率正相关。
4.根据权利要求1所述的抑制电磁干扰及漏波的结构,其特征在于,所述凹腔与所在的射频电源壳体内壁互相平行的截面的形状为椭圆或圆形或多边形。
5.根据权利要求3所述的抑制电磁干扰及漏波的结构,其特征在于,当凹腔与所在的射频电源壳体内壁互相平行的截面的形状采用多边形时,左右两个相邻凹腔之间的间距与射频电源的工作频率的关系、上下两个相邻凹腔之间的间距与射频电源的工作频率之间的关系、凹腔与射频电源的工作频率之间的关系如下:
,,,
其中,Gap1为左右两个相邻凹腔之间的间距,Gap2为上下两个相邻凹腔之间的间距,,c为光速,freq为射频电源的工作频率,L为多边形的边长。
6.根据权利要求1所述的抑制电磁干扰及漏波的结构,其特征在于,当凹腔与所在的射频电源壳体内壁互相平行的截面的形状采用多边形时,所述多边形的内角大于90°。
7.根据权利要求1所述的抑制电磁干扰及漏波的结构,其特征在于,当所述凹腔与所在的射频电源壳体内壁互相平行的截面的形状采用多边形时,凹腔的边长与射频电源的工作频率相关;凹腔的深度与射频电源的工作频率相关。
8.根据权利要求1所述的抑制电磁干扰及漏波的结构,其特征在于,凹腔与所在的射频电源壳体内壁互相平行的截面的形状采用正六边形。
9.一种射频电源,其特征在于,包括如权利要求1至8任一所述的抑制电磁干扰及漏波的结构。
10.一种等离子刻蚀设备,其特征在于,包括如权利要求1至8任一所述的抑制电磁干扰及漏波的结构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于季华实验室,未经季华实验室许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011332509.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





