[发明专利]一种碳化硅颗粒的清洗系统及使用方法在审
| 申请号: | 202011328815.4 | 申请日: | 2020-11-24 |
| 公开(公告)号: | CN112547669A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
| 发明(设计)人: | 杨梦圆 | 申请(专利权)人: | 杨梦圆 |
| 主分类号: | B08B3/10 | 分类号: | B08B3/10;B08B3/14;B08B13/00;F26B11/16;F26B3/30 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 450100 河南省郑*** | 国省代码: | 河南;41 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 碳化硅 颗粒 清洗 系统 使用方法 | ||
本发明公开了一种碳化硅颗粒的清洗系统及使用方法,涉及碳化硅生产技术领域,包括清洗平台单元,在所述清洗平台单元的外侧壁和内部共同固定安装有颗粒物清洗烘干主动单元,在所述清洗平台单元的顶端固定安装有红外线热源烘干单元,在所述清洗平台单元的内部底端固定安装有清洗液循环泵送处理单元,清洗液循环泵送处理单元的若干个出液口朝着清洗平台单元顶端的方向设置,并延伸至清洗平台单元的内部,利用机械的方式来取代现有碳化硅颗粒在清洗过程中所采用人工清洗的方式,机械的方式不仅省时省力,而且无需投入大量的人力资源,从长远的角度出发,可以降低碳化硅的生产成本,让生产厂家在市场上具有竞争力。
技术领域
本发明涉及碳化硅生产技术领域,具体为一种碳化硅颗粒的清洗系统及使用方法。
背景技术
纯碳化硅是无色透明的晶体。工业碳化硅因所含杂质的种类和含量不同,而呈浅黄、绿、蓝乃至黑色,透明度随其纯度不同而异。碳化硅因其晶体结构中碳和硅原子的堆垛序列不同而构成许多不同变体,大约存在250种晶体形式。通过预陶瓷聚合物的惰性气氛热解,也产生了玻璃态无定形的碳化硅。工业制备碳化硅是采用优质石英砂和石油焦在电阻炉内炼制,炼得的碳化硅块,经破碎、酸碱洗、磁选和筛分或水选而制成各种粒度的产品。
在碳化硅生产的过程中,需要对成品的碳化硅颗粒,利用碳化硅专用的清洗液,对其进行清洗处理,减少碳化硅颗粒表面所附着的杂质量,以免影响碳化硅颗粒在后期的使用效果,而在现有的碳化硅颗粒清洗工序中,通常是将碳化硅颗粒倒入清洗池中,利用人工对清洗池内的碳化硅颗粒进行搅拌而上述操作在实际处理的过程中,存在如下缺陷:
人工对碳化硅颗粒进行搅拌,由于碳化硅颗粒在工业上属于批量性,大规模的生产,上述方式单单只是清洗工序,就需要投入大量的人力物力,使得碳化硅颗粒的生产成本提高,进而导致碳化硅颗粒的市场售价普遍较高;
人工对碳化硅颗粒进行搅拌,无法让大部分的碳化硅颗粒悬浮在清洗液中,大多数情况在搅拌的过程中,碳化硅颗粒沉降在清洗池的池底,使得清洗后的碳化硅颗粒依然附着杂质;
另外,当人工对碳化硅颗粒清洗后,需要从池中捞出,再转移到烘干设备中,对碳化硅颗粒进行烘干处理,在这个过程中,碳化硅需要转运,使得碳化硅整体的生产周期边长;
综上,本领域的技术人员提出了一种碳化硅颗粒的清洗系统及使用方法。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了一种碳化硅颗粒的清洗系统及使用方法,解决了在清洗过程中,采用人工对碳化硅颗粒进行搅拌,需要投入大量的人力物力,使得碳化硅颗粒的生产成本提高,并且清洗效果不佳以及清洗后的碳化硅颗粒需要转运至烘干设备中,中间存在转运的真空期,致使生产效率低的问题。
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种碳化硅颗粒的清洗系统,包括清洗平台单元,在所述清洗平台单元的外侧壁和内部共同固定安装有颗粒物清洗烘干主动单元,所述颗粒物清洗烘干主动单元的主动结构位于清洗平台单元的外侧,且颗粒物清洗烘干主动单元的从动结构安装在清洗平台单元的内部,在所述清洗平台单元的外侧且对应主动结构的位置固定安装有尺寸相适配的第二防护罩,在所述清洗平台单元的顶端固定安装有红外线热源烘干单元,在所述清洗平台单元的内部底端固定安装有清洗液循环泵送处理单元,所述清洗液循环泵送处理单元的若干个出液口朝着清洗平台单元顶端的方向设置,并延伸至清洗平台单元的内部;
所述颗粒物清洗烘干主动单元包括对称安装在清洗平台单元内部的第一支撑座和第二支撑座,在所述第一支撑座和第二支撑座的顶部分别共同转动连接有第一传动轴杆和第二传动轴杆,在所述第一传动轴杆和第二传动轴杆的外部分别对应套接有若干个第一翻抛板和第二翻抛板,若干个第一翻抛板和第二翻抛板整体呈交替分布,所述第一传动轴杆的一端贯穿第一支撑座之后,延伸至清洗平台单元的外部,并且固定安装有第一从动带轮,所述第二传动轴杆的一端贯穿第一支撑座之后,延伸至清洗平台单元的外部,并且固定安装有第二从动带轮;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨梦圆,未经杨梦圆许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011328815.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





