[发明专利]一种用于碱性电解池的哌啶型阴离子交换膜及其制备方法

权利要求书

1.一种用于碱性电解池的哌啶型阴离子交换膜，其特征在于，哌啶型阴离子交换膜中哌啶型季胺化聚合物的结构如下：

其中：m＝0.6～0.9。

2.权利要求1所述的哌啶型阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：

(1)哌啶型三单体聚合物的合成：将对三联苯溶于二氯甲烷中，溶解后加入N-甲基-4哌啶酮和丙酮酸甲酯，在冰浴下逐滴加入三氟乙酸和三氟甲磺酸，1h后撤去冰浴，室温下反应3小时后得到溶液，随后将溶液倒入溶剂A中沉淀，最后用水洗涤至中性，烘箱干燥得到三单体聚合物；

所述的对三联苯与二氯甲烷的w/v，g/mL为16～20％；

所述的对三联苯：N-甲基-4哌啶酮：丙酮酸甲酯的摩尔比为1:1.1:0.1～0.4；

所述的对三联苯与三氟甲磺酸的摩尔比为1：8～9；

所述的对三联苯与三氟乙酸的摩尔比为1：1.3～2；

所述的溶剂A为甲醇、乙醇中的一种；

(2)季胺化聚合物制备：三单体聚合物溶于溶剂B中，溶解后加碘甲烷，最后加入碳酸钾，在60℃下避光反应一段时间；将反应结束后的溶液倒入溶剂C中析出，最后用溶剂C洗涤、过滤、干燥，得到季胺化聚合物；

所述的三单体聚合物：碘甲烷：碳酸钾的摩尔比为：1：1.5～2：0.5～1；

所述的溶剂B为N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜的一种；

所述的三单体聚合物与溶剂B的w/v，g/mL为4～6％；

所述的析出剂C为丙酮、乙酸乙酯中的一种；

所述的避光反应时间为36～48h；

(3)哌啶型阴离子交换膜的制备：将季胺化聚合物溶于溶剂D中，溶解后离心去除杂质得到铸膜液；再将铸膜液浇铸成膜；将膜浸泡于1mol/L氢氧化钾溶液中24～48h，在去离子水中浸泡至中性，即得哌啶型阴离子交换膜；

所述的溶剂D为N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜的一种；

所述的铸膜液w/v，g/mL为3～6％；

所述的浇铸法成膜的烘干温度为60～80℃，时间为24～48小时。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤(1)中的干燥条件为：温度为60～70℃，时间为24～36h。

4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中的干燥条件为：温度为50～60C，时间为24小时以上。