[发明专利]原子级平整金属薄膜基底的制备方法在审
| 申请号： | 202011321965.2 | 申请日： | 2020-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN112458406A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 万逸;阚二军;曾华凌;方鑫 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/18;G01Q30/00 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 刘海霞 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 原子 平整 金属 薄膜 基底 制备 方法 | ||
1.原子级平整金属薄膜基底的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1，在具有原子级平整的基底表面，采用电子束蒸发、热蒸发或磁控溅射方式，蒸镀上所需的金属薄膜；
步骤2，在金属薄膜表面旋涂紫外固化胶；
步骤3，将一片表面积略大于基底的石英玻璃放置在旋涂完固化胶的金属薄膜上，利用石英玻璃的透明性，采用紫外辐照，使胶水固化；
步骤4，机械解理，即可得到原子级平整的金属薄膜表面以及可重复使用的基底。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述的基底选自抛光硅片、Si/SiO2基片、蓝宝石基片、氮化镓基片、砷化镓基片或钛酸锶基片。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤2中，紫外固化胶型号为LOCTITE3492。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，预旋涂参数为转速400rpm，时长15s，正式旋涂参数为转速2000～2500rpm，时长1min。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤3中，紫外波长为250～1000nm，峰值365nm。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤3中，紫外辐照功率为40mW/cm2，辐照时间为1min。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤4中，解理工具为手术刀片，刀片刃口为0.1～0.5mm。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的金属为金、银、铜、铝、钛或铂。
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