[发明专利]一种石英半球谐振子纳米制造装备有效

专利信息
申请号: 202011316697.5 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN112461264B 公开(公告)日: 2023-04-11
发明(设计)人: 张振宇;刘冬冬;冯坚强 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00;B82Y40/00;B24B1/00;B24B37/00
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 温福雪;侯明远
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 石英 半球 谐振子 纳米 制造 装备
【权利要求书】:

1.一种石英半球谐振子纳米制造装备,其特征在于,该装备包括:

(1):数控微纳移动旋转平台:实现绕X、Y、Z轴回转的和水平移动;非切削时,回转工作台带动其上的工件进行360°范围的分度旋转,在切削时候实现X、Y、Z轴进行联动,加工复杂曲面,实现连续圆周进给运动;数控微纳移动旋转平台采用伺服电机驱动,达到移动精度小于10nm,转动精度小于0.01°;

(2):分度装置:实现一次装夹实现多个工位的加工,同时实现磨削、化学机械抛光、离子束流抛光修型;采用气动驱动的方式,分度装置的旋转达到0.01°;

(3):离子束抛光装置:本装置是采用Ar离子作为离子抛光的离子源,采用机械泵外加分子泵对离子源腔室进行抽真空,真空值达到1x10-7mbar;通过分度装置移动加工工件到离子腔室内,通过激光干涉仪对样品表面进行实时成像,同时对离子腔和样品进行抽真空,进行聚焦离子束加工修型;离子束的加速电压在0.5kV-5kV可调;利用5kV实现对石英半球陀螺进行粗修型,利用0.8kV进行精修型;

(4):化学机械抛光装置:该装置包括粘结着不同类型的抛光布的磨头和多管路冷却液喷嘴;后者用于喷射冷却液和抛光液,喷射流速可调;喷射压力为:0.02kPa-2kPa;

(5):激光干涉仪:本装备采用双频激光干涉仪,进行几何精度检测,其中包括检测直线度、垂直度、俯仰与偏摆、平面度、平行度;直线度的测量精度达到1nm,角度测量精度达到1″;

(6):辅助功能装置:辅助功能装置包括润滑装置、排屑装置、液压、气动装置和防护装置;主要采用集中润滑系统,本装备配备有刮板式排屑装置,同时装备具有防护系统,同时保护机床导轨和伺服电机,同时配备着局部镀膜保护装置,保护已达到加工要求的工件表面不会被加工。

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